| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 缩略词 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-19页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 研究背景及意义 | 第14-15页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第15-18页 |
| 1.3.1 等离子体激励器研究现状 | 第15-17页 |
| 1.3.2 滑移放电等离子体激励器研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 本文主要的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 等离子体滑移放电激励器的设计与滑移放电的实现 | 第19-32页 |
| 2.1 等离子体流动控制理论 | 第19-21页 |
| 2.1.1 等离子体的产生及分类 | 第19-20页 |
| 2.1.2 DBD放电的物理过程 | 第20页 |
| 2.1.3 低温等离子体流动控制机理 | 第20-21页 |
| 2.2 滑移放电等离子体激励器的设计 | 第21-28页 |
| 2.2.1 激励器结构参数设计与材料选择 | 第21-23页 |
| 2.2.2 等离子体电源 | 第23-24页 |
| 2.2.3 滑移放电现象初步观测 | 第24-26页 |
| 2.2.4 等离子体放电参数测试 | 第26-28页 |
| 2.3 滑移放电的实现 | 第28-31页 |
| 2.3.1 滑移放电现象的拍摄设计 | 第28页 |
| 2.3.2 滑移放电形态学结构 | 第28-31页 |
| 2.4 小结 | 第31-32页 |
| 第三章 等离子体滑移放电激励器特性研究 | 第32-57页 |
| 3.1 温度特性 | 第32-41页 |
| 3.1.1 红外热成像技术 | 第32-33页 |
| 3.1.2 滑移放电形成过程中的温度分布 | 第33-36页 |
| 3.1.3 占空比对温度的影响 | 第36-39页 |
| 3.1.4 调制频率对温度的影响 | 第39-41页 |
| 3.2 流场特性 | 第41-53页 |
| 3.2.1 PIV流场测试技术 | 第41-43页 |
| 3.2.2 滑移放电的流场特性 | 第43-48页 |
| 3.2.3 占空比对流场的影响 | 第48-51页 |
| 3.2.4 调制频率对流场的影响 | 第51-53页 |
| 3.3 放电特性 | 第53-56页 |
| 3.3.1 电流特性 | 第53-55页 |
| 3.3.2 功率特性 | 第55-56页 |
| 3.4 小结 | 第56-57页 |
| 第四章 等离子体滑移放电激励器应用研究 | 第57-65页 |
| 4.1 试验风洞及模型 | 第57-58页 |
| 4.2 烟流显示 | 第58-60页 |
| 4.3 PIV流动显示 | 第60-62页 |
| 4.4 气动力测量 | 第62-64页 |
| 4.5 小结 | 第64-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 本文研究内容总结 | 第65页 |
| 5.2 问题与展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第73-74页 |
| 附录 | 第74页 |