| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| 1.1 凝聚态物理/高压物理 | 第7-8页 |
| 1.2 金属间硅化物的研究背景 | 第8-10页 |
| 1.3 金属硅化物的制备 | 第10-12页 |
| 1.3.1 扩散偶合 | 第10-11页 |
| 1.3.2 共沉积、共溅射过程 | 第11-12页 |
| 1.3.3 磁控溅射法制备金属硅化物 | 第12页 |
| 1.4 金属硅化物的晶体结构与电子结构特性 | 第12-15页 |
| 1.4.1 金属硅化物的晶体结构 | 第12-14页 |
| 1.4.2 金属硅化物的电子结构特性 | 第14-15页 |
| 1.5 金属间硅化物的选题目的及研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 实验原理与方法 | 第17-33页 |
| 2.1 金刚石对顶砧压机装置 | 第17-24页 |
| 2.1.1 DAC( Diamond Anvil Cell) | 第17-18页 |
| 2.1.2 HDAC(Heat Diamond Anvil Cell)简介 | 第18-19页 |
| 2.1.3 金刚石对顶砧压机组装与调平对中 | 第19-20页 |
| 2.1.4 封垫gasket的选择 | 第20-22页 |
| 2.1.5 传压介质的选择 | 第22-23页 |
| 2.1.6 压力的标定 | 第23-24页 |
| 2.2 同步辐射X射线衍射 | 第24-28页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析基础 | 第24-25页 |
| 2.2.2 同步辐射原位高压衍射技术简介 | 第25-26页 |
| 2.2.3 DAC原位同步辐射技术 | 第26-28页 |
| 2.3 高压原位拉曼技术 | 第28-30页 |
| 2.4 高压电学测量及理论计算 | 第30-33页 |
| 2.4.1 高压电学测量基础 | 第30-31页 |
| 2.4.2 高压电学计算原理 | 第31-33页 |
| 第三章 二硅化钽的高压结构与电学性质研究 | 第33-41页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验部分 | 第33-35页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第35-39页 |
| 3.3.1 高压结构研究 | 第35-38页 |
| 3.3.2 高压电学研究 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 总结与展望 | 第41-43页 |
| 4.1 结论 | 第41页 |
| 4.2 未来展望 | 第41-43页 |
| 致谢 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-51页 |
| 附录 | 第51页 |