摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 真空镀膜技术 | 第11-16页 |
1.1.1 真空镀膜技术概论 | 第11-13页 |
1.1.2 真空镀膜技术分类及技术特点 | 第13-16页 |
1.2 真空镀膜(PVD)在微小刀具上的应用 | 第16-19页 |
1.2.1 微小磨具微尺度磨削的研究和发展现状 | 第16-18页 |
1.2.2 真空镀膜技术在刀具上的研究和发展现状 | 第18-19页 |
1.3 论文的来源、意义和总体框架 | 第19-21页 |
1.3.1 论文的来源和意义 | 第19-20页 |
1.3.2 论文的总体框架 | 第20-21页 |
第2章 真空镀膜和涂层微磨具磨削理论 | 第21-47页 |
2.1 电子回旋共振波射频溅射原理 | 第21-26页 |
2.1.1 气体放电 | 第21-22页 |
2.1.2 等离子体 | 第22-23页 |
2.1.3 电子回旋共振波射频溅射 | 第23-26页 |
2.2 薄膜的生长过程 | 第26-29页 |
2.2.1 吸附阶段 | 第26-27页 |
2.2.2 扩散和脱附阶段 | 第27-28页 |
2.2.3 成核阶段 | 第28-29页 |
2.2.4 连续膜形成阶段 | 第29页 |
2.3 膜层厚度分析 | 第29-32页 |
2.4 涂层对微磨具表面形貌及力热特性的影响 | 第32-38页 |
2.4.1 微磨具表面形貌与失效形式 | 第32-33页 |
2.4.2 微磨具表面镀膜对砂轮形貌的影响 | 第33-37页 |
2.4.3 微磨具表面镀膜对砂轮力热特性的影响 | 第37-38页 |
2.5 涂层磨粒磨削表面粗糙度模型 | 第38-42页 |
2.5.1 磨屑厚度和概率密度函数 | 第39-40页 |
2.5.2 表面粗糙度模型的理论分析 | 第40-42页 |
2.6 涂层单颗磨粒的磨削力模型 | 第42-45页 |
2.7 本章小结 | 第45-47页 |
第3章 CBN微磨具表面涂层制备实验研究 | 第47-57页 |
3.1 实验设备 | 第47-49页 |
3.1.1 实验事项 | 第49页 |
3.2 工艺参数的优化 | 第49-53页 |
3.2.1 流量比的优化 | 第50-51页 |
3.2.2 射频功率的优化 | 第51-53页 |
3.3 XRD检测及磨粒SEM表面形貌分析 | 第53-55页 |
3.4 本章小结 | 第55-57页 |
第4章 微磨具微加工实验研究及结果分析 | 第57-71页 |
4.1 实验及检测设备介绍 | 第57-60页 |
4.2 实验安排 | 第60-61页 |
4.2.1 实验材料介绍 | 第60页 |
4.2.2 实验设计 | 第60-61页 |
4.3 磨削用量对表面粗糙度的影响 | 第61-63页 |
4.3.1 主轴转速对表面粗糙度的影响 | 第61-62页 |
4.3.2 磨削深度对表面粗糙度的影响 | 第62页 |
4.3.3 进给速度对表面粗糙度的影响 | 第62-63页 |
4.4 磨削用量对磨削力的影响 | 第63-66页 |
4.4.1 主轴转速对磨削力的影响 | 第63-64页 |
4.4.2 磨削深度对磨削力的影响 | 第64-65页 |
4.4.3 进给速度队磨削力的影响 | 第65-66页 |
4.5 未镀膜磨棒和镀膜磨棒加工表面表面形貌对比分析 | 第66-68页 |
4.6 加工后涂层与未涂层微磨具表面形貌分析 | 第68-69页 |
4.7 本章小结 | 第69-71页 |
第5章 涂层微磨具微磨削过程仿真分析 | 第71-87页 |
5.1 Abaqus有限元软件的介绍 | 第71-73页 |
5.2 单颗磨粒二维切削模型的确定 | 第73-78页 |
5.2.1 磨粒形状及黄铜材料本构模型 | 第73-75页 |
5.2.2 ABAQUS仿真步骤 | 第75页 |
5.2.3 仿真过程及结果分析 | 第75-78页 |
5.3 磨削深度对磨削力和涂层磨粒温度的影响 | 第78-82页 |
5.3.1 磨削力的仿真结果 | 第78-80页 |
5.3.2 涂层磨粒的温度场仿真 | 第80-82页 |
5.4 磨削速度对于磨削力和磨削温度的仿真 | 第82-86页 |
5.4.1 磨削力的仿真结果 | 第82-83页 |
5.4.2 磨削温度的仿真结果 | 第83-86页 |
5.5 本章小结 | 第86-87页 |
第6章 结论与建议 | 第87-89页 |
6.1 结论 | 第87-88页 |
6.2 建议 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-93页 |
致谢 | 第93页 |