| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题的背景和研究意义 | 第9-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-16页 |
| 1.2.1 蓝宝石强化研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2.2 增透保护膜研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 薄膜制备与测试 | 第17-24页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 薄膜制备 | 第17-20页 |
| 2.2.1 射频反应磁控溅射原理 | 第17-18页 |
| 2.2.2 基本工艺参数 | 第18-19页 |
| 2.2.3 薄膜制备工艺流程 | 第19-20页 |
| 2.3 薄膜测试方法 | 第20-24页 |
| 2.3.1 薄膜形貌、成分和结构的表征 | 第20页 |
| 2.3.2 薄膜光学常数的表征 | 第20-21页 |
| 2.3.3 薄膜力学性能的表征 | 第21-22页 |
| 2.3.4 Y_2O_3/SiO_2双层膜的性能评价 | 第22-24页 |
| 第3章 Y_2O_3和 SiO_2薄膜制备与性质研究 | 第24-42页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 薄膜制备的研究 | 第24-29页 |
| 3.2.1 Y_2O_3薄膜制备工艺分析 | 第24-28页 |
| 3.2.2 SiO_2薄膜制备工艺 | 第28-29页 |
| 3.3 薄膜的成分和结构 | 第29-37页 |
| 3.3.1 薄膜结构分析 | 第29-31页 |
| 3.3.2 薄膜成分分析 | 第31-37页 |
| 3.4 薄膜的性能测试 | 第37-41页 |
| 3.4.1 Y_2O_3薄膜的性能 | 第37-40页 |
| 3.4.2 SiO_2薄膜的性能 | 第40-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 Y_2O_3中间层对保护膜性能的影响 | 第42-54页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 薄膜形貌分析 | 第42-45页 |
| 4.3 Y_2O_3/ SiO_2双层膜的附着力 | 第45-48页 |
| 4.4 Y_2O_3/SiO_2双层膜的透过率 | 第48-51页 |
| 4.4.1 中间层厚度对透过率的影响 | 第48-49页 |
| 4.4.2 温度对透过率的影响 | 第49-51页 |
| 4.5 Y_2O_3/SiO_2双层膜的抗热冲击性能 | 第51-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
