| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 课题背景及来源 | 第10-11页 |
| 1.2 磨粒流抛光技术简介 | 第11-13页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第13-17页 |
| 1.3.1 磨粒流抛光工艺中流体磨料参数的研究现状 | 第13页 |
| 1.3.2 磨粒流抛光的工艺参数研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3.3 磨粒流抛光过程的数值模拟研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3.4 参数模糊优选的相关研究现状 | 第16-17页 |
| 1.4 论文主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 磨粒流磨料参数的模糊优选 | 第18-33页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 磨料参数的选择原则 | 第18-21页 |
| 2.3 多目标系统的磨料优选模糊模型 | 第21-27页 |
| 2.3.1 磨料优选模糊模型的概述 | 第21-22页 |
| 2.3.2 磨料模糊优选模型的输入 | 第22-25页 |
| 2.3.3 磨料参数模糊优选模型的目标权重 | 第25-27页 |
| 2.3.4 磨料参数模糊优选模型的输出 | 第27页 |
| 2.4 磨料参数优选实例 | 第27-31页 |
| 2.4.1 磨料参数方案的确定 | 第27-28页 |
| 2.4.2 磨料参数模糊优选模型输入的确定 | 第28-29页 |
| 2.4.3 磨料参数模糊优选模型目标权重的确定 | 第29-30页 |
| 2.4.4 磨料参数方案的最终确定 | 第30-31页 |
| 2.5 磨料参数方案的实验验证 | 第31-32页 |
| 2.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 底座直孔磨粒流抛光流场的数值模拟与分析 | 第33-47页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 Fluent软件简介 | 第33-34页 |
| 3.3 底座直孔磨粒流抛光过程的数值模拟 | 第34-38页 |
| 3.3.1 磨粒流抛光零件的描述 | 第34-35页 |
| 3.3.2 有限元模型的建立 | 第35-36页 |
| 3.3.3 磨粒流抛光加工数值模拟边界条件的设置 | 第36页 |
| 3.3.4 流动模型的选择和求解器的设置 | 第36-38页 |
| 3.4 磨粒流抛光加工过程的模拟与分析 | 第38-46页 |
| 3.4.1 一定进口压力下不同孔径的模拟与分析 | 第38-40页 |
| 3.4.2 一定进口压力下不同孔深的模拟与分析 | 第40-43页 |
| 3.4.3 不同进口压力下固定圆孔通道的模拟和分析 | 第43-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 小孔磨粒流抛光实验分析 | 第47-58页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 实验工件及抛光设备 | 第47-50页 |
| 4.2.1 实验工件 | 第47-48页 |
| 4.2.2 抛光实验设备 | 第48-50页 |
| 4.3 加工参数的设置 | 第50-52页 |
| 4.4 实验结果及分析 | 第52-56页 |
| 4.4.1 工作压力对小孔磨粒流抛光质量的影响 | 第53-54页 |
| 4.4.2 加工时间和行程循环次数对磨粒流抛光质量的影响 | 第54-56页 |
| 4.5 磨粒流抛光加工参数的选择 | 第56-57页 |
| 4.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 底座阶梯孔的磨粒流抛光工艺 | 第58-68页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 质量流量控制器底座阶梯孔的磨粒流抛光问题现状 | 第58-61页 |
| 5.3 阶梯孔磨粒流抛光表面质量不均匀的形成原因 | 第61-63页 |
| 5.3.1 阶梯孔流道有限元模型的建立 | 第61-62页 |
| 5.3.2 模拟计算结果分析 | 第62-63页 |
| 5.4 阶梯孔通道磨粒流抛光加工的流道优化 | 第63-66页 |
| 5.4.1 一次加工的孔道尺寸范围 | 第63页 |
| 5.4.2 阶梯孔磨粒流抛光加工的流道设计 | 第63-65页 |
| 5.4.3 优化后流道的内部流场分析 | 第65-66页 |
| 5.5 优化后实际加工效果验证 | 第66-67页 |
| 5.6 本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
