| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 薄膜沉积技术 | 第10-13页 |
| 1.1.1 化学气相沉积(CVD) | 第10页 |
| 1.1.2 物理气相沉积(PVD) | 第10-13页 |
| 1.2 薄膜生长方式 | 第13-14页 |
| 1.3 AlCrN硬质薄膜的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 本论文主要研究内容和选题的意义 | 第15-17页 |
| 1.4.1 本论文主要研究内容 | 第15-16页 |
| 1.4.2 本论文选题意义 | 第16-17页 |
| 第二章 薄膜的制备与检测 | 第17-23页 |
| 2.1 薄膜沉积设备 | 第17-18页 |
| 2.2 镀前基体材料处理及薄膜沉积 | 第18-19页 |
| 2.2.1 镀前基体材料处理 | 第18页 |
| 2.2.2 薄膜沉积 | 第18-19页 |
| 2.3 薄膜表面形貌、化学成分、结构和性能的表征手段 | 第19-23页 |
| 2.3.1 薄膜表面形貌、化学成分及结构的表征 | 第19页 |
| 2.3.2 薄膜性能的表征 | 第19-23页 |
| 第三章 电磁线圈电压对AlCrN硬质膜的影响 | 第23-44页 |
| 3.1 AlCrN薄膜沉积速率、表面形貌、化学成分及相结构分析 | 第24-33页 |
| 3.1.1 AlCrN薄膜沉积速率分析 | 第24-25页 |
| 3.1.2 AlCrN薄膜表面形貌分析 | 第25-29页 |
| 3.1.3 AlCrN薄膜化学成分分析 | 第29页 |
| 3.1.4 AlCrN薄膜相结构分析 | 第29-33页 |
| 3.2 AlCrN薄膜性能分析 | 第33-43页 |
| 3.2.1 AlCrN薄膜硬度及弹性模量分析 | 第33-36页 |
| 3.2.2 AlCrN薄膜结合强度分析 | 第36-38页 |
| 3.2.3 AlCrN薄膜耐磨性能分析 | 第38-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 电磁线圈频率对AlCrN薄膜的影响 | 第44-62页 |
| 4.1 AlCrN薄膜化学成分、沉积速率、表面形貌及相结构 | 第45-53页 |
| 4.1.1 AlCrN薄膜化学成分和沉积效率分析 | 第45-47页 |
| 4.1.2 AlCrN薄膜表面形貌分析 | 第47-50页 |
| 4.1.3 AlCrN薄膜相结构分析 | 第50-53页 |
| 4.2 AlCrN薄膜性能分析 | 第53-61页 |
| 4.2.1 AlCrN薄膜硬度分析 | 第53-54页 |
| 4.2.2 AlCrN薄膜结合强度分析 | 第54-57页 |
| 4.2.3 AlCrN薄膜耐磨性能分析 | 第57-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 在学研究成果 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
