| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 表面光整加工技术概述 | 第11-12页 |
| 1.3 表面光整加工的未来发展方向 | 第12-14页 |
| 1.4 大尺寸孔表面光整加工概述 | 第14-20页 |
| 1.4.1 珩磨加工 | 第14-15页 |
| 1.4.2 滚压加工 | 第15-16页 |
| 1.4.3 研磨加工 | 第16-17页 |
| 1.4.4 挤压珩磨加工 | 第17-18页 |
| 1.4.5 磁性磨粒光整加工 | 第18-19页 |
| 1.4.6 动力刷加工 | 第19-20页 |
| 1.4.7 气粒两相螺旋流光整加工 | 第20页 |
| 1.5 大尺寸孔表面光整加工方法的研究现状 | 第20-22页 |
| 1.6 本课题研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 传统涡流式滚磨光整加工概述 | 第24-28页 |
| 2.1 传统涡流式滚磨光整加工装置介绍 | 第24-25页 |
| 2.2 影响加工效果的主要因素 | 第25-26页 |
| 2.2.1 离心底盘形状及固定筒壁形状 | 第25页 |
| 2.2.2 离心底盘的转速 | 第25页 |
| 2.2.3 混合物的装入量 | 第25-26页 |
| 2.3 孔表面动态涡流式滚磨光整加工技术方案的提出 | 第26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 孔表面动态涡流式滚磨光整加工理论分析 | 第28-38页 |
| 3.1 孔表面动态涡流式滚磨光整加工原理简介 | 第28-29页 |
| 3.2 磨料颗粒的运动及受力分析 | 第29-36页 |
| 3.2.1 磨料颗粒运动的数学模型 | 第29-32页 |
| 3.2.2 磨料颗粒的运动模拟及分析 | 第32-35页 |
| 3.2.3 磨料颗粒的受力分析 | 第35-36页 |
| 3.3 本章小结 | 第36-38页 |
| 第四章 孔表面动态涡流式滚磨光整加工过程仿真及分析 | 第38-62页 |
| 4.1 基于离散元法的分析软件 EDEM 简介 | 第38-40页 |
| 4.1.1 离散元法发展现状介绍 | 第38-39页 |
| 4.1.2 离散元软件介绍 | 第39-40页 |
| 4.2 磨料颗粒和边界的几何模型 | 第40-41页 |
| 4.2.1 磨料颗粒的几何模型 | 第40页 |
| 4.2.2 边界几何模型 | 第40-41页 |
| 4.3 磨料颗粒的接触模型 | 第41-44页 |
| 4.3.1 法向接触力的计算 | 第42页 |
| 4.3.2 切向接触力的计算 | 第42-43页 |
| 4.3.3 合力和合力矩的计算 | 第43页 |
| 4.3.4 弹性系数和阻尼系数的确定 | 第43-44页 |
| 4.4 磨料颗粒模型的运动方程 | 第44-45页 |
| 4.5 孔表面动态涡流式滚磨光整加工仿真 | 第45-48页 |
| 4.5.1 动态涡流式滚磨光整加工装置模型的建立 | 第45-46页 |
| 4.5.2 EDEM 中仿真条件设定 | 第46-48页 |
| 4.6 孔表面动态涡流式滚磨光整加工仿真结果分析 | 第48-60页 |
| 4.6.1 不同底盘转速对磨料运动状态的影响分析 | 第48-53页 |
| 4.6.2 不同磨料填充量对磨料运动状态的影响分析 | 第53-56页 |
| 4.6.3 不同磨料半径对磨料运动状态的影响分析 | 第56-60页 |
| 4.7 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 孔表面动态涡流式滚磨光整加工实验研究 | 第62-68页 |
| 5.1 实验装置及相关物料的选择 | 第62-65页 |
| 5.1.1 实验装置介绍 | 第62-63页 |
| 5.1.2 实验加工工件选取 | 第63-64页 |
| 5.1.3 磨料选取 | 第64页 |
| 5.1.4 磨剂选取 | 第64页 |
| 5.1.5 测量仪器选取 | 第64-65页 |
| 5.2 正交实验设计 | 第65-67页 |
| 5.2.1 正交实验介绍 | 第65页 |
| 5.2.2 正交实验设计 | 第65-66页 |
| 5.2.3 正交实验结果及分析 | 第66-67页 |
| 5.3 本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 总结与展望 | 第68-72页 |
| 6.1 总结 | 第68-69页 |
| 6.2 展望 | 第69-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78页 |
