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高气压直流辉光放电及其等离子体化学气相沉积金刚石厚膜的生长特性与应用研究

第一章 绪 论第7-23页
    第一节 金刚石的结构第7-9页
    第二节 金刚石的性质与应用第9-14页
    第三节 CVD 金刚石的发展历史与现状第14-18页
    第四节 常用的制备金刚石膜方法简介第18-21页
    第五节 论文的选题和内容第21-23页
第二章 大电流高气压下气体的辉光放电第23-54页
    第一节 低压气体的放电与击穿第24-26页
    第二节 低压气体的直流辉光放电第26-30页
    第三节 高 气 压 下 直 流 辉 光 放 电 的 产 生 与 维 持第30-38页
    第四节 高气压下直流辉光放电特点第38-52页
    第五节 本章小结第52-54页
第三章 金刚石膜的生长特性研究第54-94页
    第一节 装置第55-58页
    第二节 金刚石膜的生长速率第58-67页
    第三节 金刚石膜的表面形貌及晶粒取向第67-76页
    第四节 金刚石膜的截面特性第76-81页
    第五节 金钢石膜品质研究第81-86页
    第六节 金刚石膜的均匀性、爆裂和微裂纹第86-92页
    第七节 本章小节第92-94页
第四章 金刚石膜的热导率、耐磨性及工具第94-113页
    第一节 金刚石膜的热导率第94-97页
    第二节 高热导率金刚石膜的特点及制备条件第97-101页
    第三节 金刚石膜的耐磨性能研究第101-104页
    第四节 金 刚 石 膜 工 具 的 制 备第104-112页
    第五节 本章小节第112-113页
第五章 全文总结第113-125页
致谢第125-126页
博士期间主要成果第126-130页
中文摘要第130-134页
英文摘要第134页

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