| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-28页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 氢致变色薄膜的分类及研究进展 | 第10-22页 |
| 1.2.1 纯稀土薄膜 | 第10-13页 |
| 1.2.1.1 纯稀土薄膜的光电性能 | 第10-12页 |
| 1.2.1.2 滞回现象 | 第12-13页 |
| 1.2.2 Mg-RE合金薄膜 | 第13-16页 |
| 1.2.2.1 MgH_2薄膜的光电性能 | 第13-14页 |
| 1.2.2.2 Mg-RE合金薄膜的光电性能 | 第14-16页 |
| 1.2.2.3 暗黑吸收态 | 第16页 |
| 1.2.3 Mg-TM合金薄膜 | 第16-22页 |
| 1.2.3.1 Mg-TM合金薄膜的光学性能 | 第17-19页 |
| 1.2.3.2 Mg-TM合金薄膜的电学性能 | 第19页 |
| 1.2.3.3 加氢过程中的反应机制 | 第19-22页 |
| 1.3 氢致变色的激励方式 | 第22-26页 |
| 1.3.1 气致变色 | 第22-23页 |
| 1.3.2 电致变色 | 第23-24页 |
| 1.3.3 化学致变色 | 第24-26页 |
| 1.4 氢致变色薄膜性能的改善 | 第26-27页 |
| 1.4.1 抗氧化性 | 第26页 |
| 1.4.2 循环寿命 | 第26页 |
| 1.4.3 光电响应特性 | 第26-27页 |
| 1.5 选题目的与研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 样品的制备与仪器分析 | 第28-35页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第28-30页 |
| 2.1.1 磁控溅射法 | 第28-29页 |
| 2.1.2 薄膜的制备过程 | 第29-30页 |
| 2.1.2.1 基底预处理 | 第29-30页 |
| 2.1.2.2 溅射过程 | 第30页 |
| 2.2 薄膜的表征方法 | 第30-31页 |
| 2.2.1 X射线衍射技术(XRD) | 第30页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第30-31页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第31页 |
| 2.2.4 台阶仪 | 第31页 |
| 2.2.5 电感耦合等离子光谱发生仪(ICP) | 第31页 |
| 2.3 薄膜的性能测试 | 第31-35页 |
| 2.3.1 光学性能测试 | 第31-32页 |
| 2.3.2 电学性能测试 | 第32-33页 |
| 2.3.3 石英晶体微天平(QCM)测量含氢量 | 第33-35页 |
| 第三章 晶态和非晶态Mg/Pd薄膜氢致光电响应特性的对比研究 | 第35-42页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-41页 |
| 3.3.1 溅射功率对薄膜晶体结构的影响 | 第36-38页 |
| 3.3.2 薄膜的光学性能 | 第38-39页 |
| 3.3.3 薄膜的表面形貌 | 第39-40页 |
| 3.3.4 非晶化对薄膜光电响应特性的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 非晶态Mg-Ni/Pd薄膜的快速氢致光电响应特性 | 第42-52页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 实验部分 | 第42-43页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第43-51页 |
| 4.3.1 薄膜的成分及晶体结构 | 第43-44页 |
| 4.3.2 Ni对薄膜光学性能的影响 | 第44-45页 |
| 4.3.3 薄膜的光电响应特性 | 第45-47页 |
| 4.3.4 薄膜的循环性能及表面形貌 | 第47-49页 |
| 4.3.5 非晶态Mg-Ni薄膜的变色机制 | 第49-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 非晶态Mg-Ti/Pd薄膜的快速氢致光电响应特性 | 第52-62页 |
| 5.1 引言 | 第52页 |
| 5.2 实验部分 | 第52-53页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第53-60页 |
| 5.3.1 薄膜的成分及晶体结构 | 第53-54页 |
| 5.3.2 Ti对薄膜光学性能的影响 | 第54-55页 |
| 5.3.3 薄膜的表面形貌 | 第55-56页 |
| 5.3.4 薄膜的光电响应特性 | 第56-57页 |
| 5.3.5 非晶态Mg-Ti薄膜的改善机制 | 第57-60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-65页 |
| 6.1 论文的主要结论 | 第62-63页 |
| 6.2 论文的创新点 | 第63页 |
| 6.3 研究工作展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 攻读硕士期间论文、专利发表情况 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
