| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| 1.1 界面的种类及性质 | 第13-16页 |
| 1.2 氮化硼的结构、性质及应用 | 第16-19页 |
| 1.3 氮化硼涂层的制备方法 | 第19-23页 |
| 1.3.1 液相浸渍法制备BN涂层 | 第19-21页 |
| 1.3.2 化学气相沉积法制备BN涂层 | 第21-23页 |
| 1.4 化学气相沉积法制备BN涂层的研究现状 | 第23-28页 |
| 1.4.1 源气体的选择 | 第23-24页 |
| 1.4.2 CVD-BN沉积机理研究 | 第24-25页 |
| 1.4.3 沉积温度的影响 | 第25-26页 |
| 1.4.4 气体比例的影响 | 第26-27页 |
| 1.4.5 热处理工艺的影响 | 第27-28页 |
| 1.5 课题研究目的和意义 | 第28-29页 |
| 1.6 课题研究的主要内容 | 第29-31页 |
| 第二章 实验设计与表征 | 第31-39页 |
| 2.1 实验药品及实验材料 | 第31-32页 |
| 2.2 实验设备与工艺设计 | 第32-36页 |
| 2.2.1 实验装置的设计 | 第32-33页 |
| 2.2.2 反应器的设计 | 第33页 |
| 2.2.3 温度场的控制 | 第33-36页 |
| 2.3 实验设计 | 第36页 |
| 2.4 分析测试方法 | 第36-39页 |
| 第三章 工艺参数对CVD-BN沉积过程的影响 | 第39-57页 |
| 3.1 气体体系中H_2的影响 | 第39-40页 |
| 3.2 气相反应的多变性 | 第40-45页 |
| 3.2.1 不同温度下气体组分随反应时间的变化 | 第42-43页 |
| 3.2.2 不同气体分压下气体组分随反应时间的变化 | 第43-45页 |
| 3.3 温度对BN沉积过程的影响 | 第45-49页 |
| 3.3.1 对沉积产物的影响 | 第45-47页 |
| 3.3.2 对沉积速率的影响 | 第47-49页 |
| 3.4 滞留时间对沉积过程的影响 | 第49-51页 |
| 3.5 CVD-BN沉积过程的探索 | 第51-55页 |
| 3.5.1 气相反应机理 | 第52-53页 |
| 3.5.2 表面反应机理 | 第53-54页 |
| 3.5.3 动力学分析 | 第54-55页 |
| 3.6 小结 | 第55-57页 |
| 第四章 SiC纤维表面BN界面涂层的制备与表征 | 第57-71页 |
| 4.1 前言 | 第57页 |
| 4.2 CVD法制备BN界面涂层 | 第57-67页 |
| 4.2.1 工艺参数选择 | 第57-58页 |
| 4.2.2 结构表征 | 第58-60页 |
| 4.2.3 热处理温度对BN界面涂层结构的影响 | 第60-64页 |
| 4.2.4 BN涂层对SiC纤维性能的保护性能 | 第64-66页 |
| 4.2.5 BN涂层对基底SiC纤维力学性能的影响 | 第66-67页 |
| 4.3 液相浸渍法制备BN涂层 | 第67-70页 |
| 4.3.1 实验方法 | 第68页 |
| 4.3.2 结果分析 | 第68-70页 |
| 4.4 小结 | 第70-71页 |
| 第五章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 5.1 结论 | 第71-72页 |
| 5.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文和专利 | 第80-81页 |
| 作者在攻读硕士学位期间参与的科研项目 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |