优化工艺对烧结钕铁硼性能的影响
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-22页 |
1.1 永磁材料的发展与应用 | 第11-14页 |
1.1.1 烧结钕铁硼的发展 | 第11-13页 |
1.1.2 高性能烧结钕铁硼永磁体的应用 | 第13-14页 |
1.2 烧结钕铁硼磁体的相组成 | 第14-16页 |
1.2.1 基体Nd2Fe14B相 | 第14页 |
1.2.2 富B相 | 第14-15页 |
1.2.3 富Nd相 | 第15-16页 |
1.3 烧结钕铁硼永磁材料的磁参数 | 第16-19页 |
1.3.1 饱和磁化强度Ms | 第16-17页 |
1.3.2 居里温度Tc | 第17页 |
1.3.3 剩磁Mr和Br | 第17页 |
1.3.4 矫顽力Hcj和Hcb | 第17-18页 |
1.3.5 磁能积(BH)_m | 第18-19页 |
1.4 论文选题意义、目的与研究内容 | 第19-22页 |
1.4.1 选题的意义 | 第19-20页 |
1.4.2 选题的目的 | 第20页 |
1.4.3 研究内容及技术路线 | 第20-22页 |
第2章 烧结钕铁硼的制备和测试技术 | 第22-39页 |
2.1 烧结钕铁硼的制备技术 | 第22-33页 |
2.1.1 合金成分设计 | 第22-25页 |
2.1.2 配料、速凝薄带的制备 | 第25-26页 |
2.1.3 氢破碎与气流磨制粉 | 第26-28页 |
2.1.4 全封闭脉冲磁场取向与冷等静压 | 第28-30页 |
2.1.5 烧结和二级回火处理 | 第30-32页 |
2.1.6 线切割加工 | 第32-33页 |
2.1.7 先进设备的采用和工艺的优化 | 第33页 |
2.2 相关指标的测试技术 | 第33-39页 |
2.2.1 密度 | 第34页 |
2.2.2 磁性能 | 第34-35页 |
2.2.3 氧含量 | 第35页 |
2.2.4 粉末粒经测试 | 第35-36页 |
2.2.5 扫描电子显微镜及能谱分析 | 第36-37页 |
2.2.6 透射电子显微镜 | 第37-38页 |
2.2.7 XRD测试分析 | 第38-39页 |
第3章 优化烧结工艺对磁体性能的影响 | 第39-51页 |
3.1 引言 | 第39页 |
3.2 烧结温度优化对磁体性能的影响 | 第39-41页 |
3.2.1 磁体的制备 | 第39-40页 |
3.2.2 实验过程及结果测试 | 第40页 |
3.2.3 烧结温度对磁体性能的影响 | 第40-41页 |
3.3 低温烧结工艺对磁体性能的影响 | 第41-44页 |
3.3.1 低温烧结磁体的制备 | 第42页 |
3.3.2 低温烧结磁体的测试结果 | 第42-43页 |
3.3.3 低温烧结磁体晶粒分析 | 第43-44页 |
3.3.4 低温烧结对磁体性能影响机理 | 第44页 |
3.4 循环烧结工艺对磁体性能的影响 | 第44-49页 |
3.4.1 循环烧结磁体的制备 | 第45-46页 |
3.4.2 循环烧结磁体测试结果 | 第46-47页 |
3.4.3 循环烧结磁体对磁体性能影响分析 | 第47-48页 |
3.4.4 循环烧结挤压模型分析 | 第48-49页 |
3.5 本章小结 | 第49-51页 |
第4章 氧含量和取向度及添加元素对磁体性能的影响 | 第51-60页 |
4.1 氧含量与磁体矫顽力的关系 | 第51-54页 |
4.1.0 不同氧含量烧结磁体的制备 | 第51-52页 |
4.1.1 不同氧含量烧结磁体测试结果 | 第52-53页 |
4.1.2 不同氧含量对磁体性能的影响 | 第53页 |
4.1.3 表面氧化对烧结磁体收缩的影响 | 第53-54页 |
4.2 取向度对磁体性能的影响 | 第54-57页 |
4.2.1 烧结磁体粉末取向的重要性 | 第54页 |
4.2.2 不同取向度烧结磁体的制备 | 第54-55页 |
4.2.3 不同取向度烧结磁体的测试结果 | 第55页 |
4.2.4 不同取向度烧结磁体的XRD测试分析 | 第55-57页 |
4.3 添加元素对磁体性能的影响 | 第57-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-60页 |
第5章 全文结论 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
作者简介 | 第66页 |
基金资助及参加项目 | 第66-67页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67-68页 |