| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第10-11页 |
| 1.2 Ta_4HfC_5的研究现状 | 第11-15页 |
| 1.2.1 Ta C的结构与性能 | 第11-13页 |
| 1.2.2 HfC的结构与性能 | 第13-14页 |
| 1.2.3 Ta_4HfC_5陶瓷的结构与性能 | 第14-15页 |
| 1.3 Ta_4HfC_5陶瓷的制备 | 第15-18页 |
| 1.3.1 热压烧结 | 第15-16页 |
| 1.3.2 热等静压法 | 第16-17页 |
| 1.3.3 强化烧结法 | 第17页 |
| 1.3.4 放电等离子烧结法 | 第17-18页 |
| 1.4 Ta_4HfC_5陶瓷的性能研究进展 | 第18-21页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 Ta_4HfC_5陶瓷的制备与试验方法 | 第22-30页 |
| 2.1 试验原料 | 第22-25页 |
| 2.1.1 Ta_4HfC_5粉体 | 第22-23页 |
| 2.1.2 Ta_4HfC_5-Mo Si2粉体 | 第23-25页 |
| 2.2 Ta_4HfC_5陶瓷的制备工艺 | 第25-26页 |
| 2.2.1 放电等离子烧结工艺参数 | 第25页 |
| 2.2.2 材料体系设计 | 第25-26页 |
| 2.3 试验方法 | 第26-30页 |
| 2.3.1 成分及组织结构分析 | 第26-27页 |
| 2.3.2 物理性能测试 | 第27页 |
| 2.3.3 力学性能测试及表征 | 第27-29页 |
| 2.3.4 恒温氧化试验方法 | 第29-30页 |
| 第3章 Ta_4HfC_5基超高温陶瓷的制备及其性能 | 第30-50页 |
| 3.1 SPS制备Ta_4HfC_5陶瓷 | 第30-32页 |
| 3.1.1 SPS系统基本配置 | 第30-31页 |
| 3.1.2 SPS机理 | 第31-32页 |
| 3.2 不同压力对Ta_4HfC_5陶瓷组织性能的影响 | 第32-35页 |
| 3.2.1 不同压力对Ta_4HfC_5陶瓷物相组成影响 | 第32-33页 |
| 3.2.2 不同压力对Ta_4HfC_5显微组织结构影响 | 第33-34页 |
| 3.2.3 不同压力对Ta_4HfC_5陶瓷力学性能影响 | 第34-35页 |
| 3.3 不同温度对Ta_4HfC_5陶瓷组织性能影响 | 第35-40页 |
| 3.3.1 不同温度对Ta_4HfC_5陶瓷的物相组成影响 | 第35-37页 |
| 3.3.2 不同温度对Ta_4HfC_5陶瓷的显微组织结构影响 | 第37-38页 |
| 3.3.4 不同温度对Ta_4HfC_5陶瓷的力学性能 | 第38-40页 |
| 3.4 SPS制备Ta_4HfC_5基超高温陶瓷致密化过程 | 第40-48页 |
| 3.4.1 不同压力下Ta_4HfC_5陶瓷的致密化过程 | 第40-43页 |
| 3.4.2 不同温度下Ta_4HfC_5陶瓷的致密化过程 | 第43-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 Ta_4HfC_5基陶瓷抗氧化性能研究 | 第50-62页 |
| 4.1 TG-DSC综合热分析 | 第50-52页 |
| 4.1.1 Ta_4HfC_5粉体TG-DSC | 第50-51页 |
| 4.1.2 不同空气流量下Ta4HfC5-MoSi2陶瓷TG-DSC | 第51-52页 |
| 4.2 Ta_4HfC_5-Mo Si2陶瓷氧化形貌 | 第52-55页 |
| 4.2.1 Ta_4HfC_5-Mo Si2陶瓷宏观氧化形貌 | 第52-53页 |
| 4.2.2 Ta_4HfC_5-Mo Si2陶瓷微观氧化形貌 | 第53-55页 |
| 4.3 Ta_4HfC_5-Mo Si2陶瓷氧化层物相分析 | 第55-57页 |
| 4.4 Ta_4HfC_5-Mo Si2陶瓷恒温氧化动力学研究 | 第57-58页 |
| 4.5 Ta_4HfC_5-Mo Si2陶瓷氧化动力学分析 | 第58-60页 |
| 4.6 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
