| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 研究背景 | 第13-18页 |
| 1.1.1 二氧化硅简介 | 第13-16页 |
| 1.1.2 氯硅烷残液来源 | 第16-18页 |
| 1.2 氯硅烷残液回收处理的研究进展 | 第18-23页 |
| 1.2.1 氯硅烷残液的回收处理 | 第19页 |
| 1.2.2 氯硅烷残液制备二氧化硅研究进展 | 第19-23页 |
| 1.3 本课题前期研究基础 | 第23-26页 |
| 1.3.1 氯硅烷残液酸性水解制超细二氧化硅工艺 | 第23-24页 |
| 1.3.2 存在的问题 | 第24-26页 |
| 1.4 课题研究的意义内容及创新点 | 第26-29页 |
| 1.4.1 本课题研究的意义 | 第26-27页 |
| 1.4.2 课题研究的内容 | 第27页 |
| 1.4.3 研究的创新点 | 第27-29页 |
| 第二章 氯硅烷残液水解制备二氧化硅的团聚因素研究 | 第29-39页 |
| 2.1 实验材料及仪器 | 第29-30页 |
| 2.1.1 实验材料及特性 | 第29-30页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第30页 |
| 2.2 实验方法 | 第30页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第30-36页 |
| 2.3.1 含酸中试硅胶的后处理对二氧化硅物性的影响 | 第30-33页 |
| 2.3.2 氯硅烷残液水解过程条件对二氧化硅物性的影响 | 第33-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-39页 |
| 第三章 氯硅烷残液水解过程二氧化硅防团聚研究 | 第39-59页 |
| 3.1 实验材料 | 第39页 |
| 3.2 实验设备和仪器 | 第39-40页 |
| 3.3 实验方法 | 第40-43页 |
| 3.3.1 二氧化硅微观形态特征分析 | 第40-41页 |
| 3.3.2 光学显微镜图片与SEM图片的关联度建立 | 第41页 |
| 3.3.3 水解方式 | 第41-42页 |
| 3.3.4 氯硅烷残液水解体系的改进对二氧化硅物性的影响 | 第42-43页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第43-57页 |
| 3.4.1 分析鉴定方法的建立 | 第43-47页 |
| 3.4.2 水解方式对产物的影响 | 第47-49页 |
| 3.4.3 水解体系中添加剂对二氧化硅物性的影响 | 第49-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 位阻剂防治二氧化硅团聚的时效性研究 | 第59-65页 |
| 4.1 实验方法 | 第59-60页 |
| 4.1.1 搅拌反应液的影响 | 第59页 |
| 4.1.2 电解质的辅助影响 | 第59-60页 |
| 4.1.3 电解质的量化影响 | 第60页 |
| 4.1.4 残液进量的影响 | 第60页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第60-64页 |
| 4.2.1 搅拌对位阻剂作用时效性的影响 | 第60-61页 |
| 4.2.2 电解质的辅助对位阻剂作用时效性的影响 | 第61页 |
| 4.2.3 电解质在氯硅烷残液水解体系中对产物二氧化硅的作用机理 | 第61-62页 |
| 4.2.4 电解质的量对位阻剂作用时效性的影响 | 第62-63页 |
| 4.2.5 残液进量的影响 | 第63-64页 |
| 4.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 结论 | 第65-66页 |
| 5.2 展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 附录A | 第75页 |
