| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 前沿 | 第12页 |
| 1.2 光催化简介 | 第12-18页 |
| 1.2.1 光催化原理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 光催化材料的动力学 | 第13-15页 |
| 1.2.3 光催化材料的热力学 | 第15-17页 |
| 1.2.4 光催化技术的优势和难点 | 第17-18页 |
| 1.3 光催化材料的改性方法 | 第18-22页 |
| 1.3.1 掺杂 | 第18-19页 |
| 1.3.2 助催化剂 | 第19页 |
| 1.3.3 异质结 | 第19-21页 |
| 1.3.4 Z型光催化体系 | 第21-22页 |
| 1.4 光催化材料降解有机污染物的研究进展 | 第22-25页 |
| 1.4.1 TiO_2基光催化材料 | 第22-23页 |
| 1.4.2 非TiO_2基光催化材料 | 第23-25页 |
| 1.5 选题依据及论文构思 | 第25页 |
| 1.6 研究内容及方法 | 第25-26页 |
| 第二章 硫化亚锡的制备及其光催化降解污染物的研究 | 第26-44页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-31页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第26-27页 |
| 2.2.2 实验仪器设备 | 第27页 |
| 2.2.3 硫化亚锡的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.4 适宜制备条件的确定 | 第28-30页 |
| 2.2.5 光催化反应 | 第30-31页 |
| 2.3 硫化亚锡催化剂的表征及其光催化性能研究 | 第31-37页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第31-32页 |
| 2.3.2 扫描/透射电镜分析(SEM/TEM) | 第32-34页 |
| 2.3.3 比表面积分析(BET) | 第34-35页 |
| 2.3.4 光催化降解性能研究 | 第35-37页 |
| 2.4 硫化亚锡降解污染物工艺条件的优化 | 第37-42页 |
| 2.4.1 污染物类型的影响 | 第37-38页 |
| 2.4.2 SnS光催化剂用量的影响 | 第38-39页 |
| 2.4.3 甲基橙初始浓度的影响 | 第39-42页 |
| 2.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第三章 SnS/SnS_2材料的制备及其光催化降解污染物的研究 | 第44-64页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 实验部分 | 第44-47页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第44-45页 |
| 3.2.2 实验仪器设备 | 第45页 |
| 3.2.3 SnS/SnS_2异质结的制备 | 第45-46页 |
| 3.2.4 光催化反应 | 第46-47页 |
| 3.3 SnS/SnS_2异质结催化剂的表征 | 第47-55页 |
| 3.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第47页 |
| 3.3.2 扫描/透射电镜分析(SEM/TEM) | 第47-50页 |
| 3.3.3 比表面积分析(BET) | 第50-51页 |
| 3.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第51-52页 |
| 3.3.5 紫外可见漫反射光谱分析(UV-Vis DRS) | 第52-53页 |
| 3.3.6 电子结构分析 | 第53-55页 |
| 3.4 SnS/SnS_2异质结的光催化性能研究 | 第55-56页 |
| 3.4.1 光催化性能分析 | 第55-56页 |
| 3.4.2 稳定性分析 | 第56页 |
| 3.5 甲基橙光催化降解机理及产物分析 | 第56-62页 |
| 3.5.1 反应活性物质分析 | 第56-57页 |
| 3.5.2 电子自旋共振分析(ESR) | 第57-59页 |
| 3.5.3 氧化还原电位分析 | 第59-60页 |
| 3.5.4 甲基橙降解过程及产物分析 | 第60-62页 |
| 3.6 本章小结 | 第62-64页 |
| 第四章 c-PANI/SnS材料的制备及其光催化降解污染物的研究 | 第64-78页 |
| 4.1 引言 | 第64页 |
| 4.2 实验部分 | 第64-66页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第64-65页 |
| 4.2.2 实验仪器设备 | 第65页 |
| 4.2.3 c-PANI/SnS复合材料的制备 | 第65-66页 |
| 4.2.4 光催化反应 | 第66页 |
| 4.3 c-PANI/SnS复合材料的表征 | 第66-74页 |
| 4.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第66-67页 |
| 4.3.2 扫描电镜分析(SEM) | 第67-69页 |
| 4.3.3 能谱分析(EDAX) | 第69-70页 |
| 4.3.4 红外光谱分析(FT-IR) | 第70-72页 |
| 4.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第72-73页 |
| 4.3.6 紫外可见漫反射光谱分析(UV-Vis DRS) | 第73-74页 |
| 4.4 c-PANI/SnS复合材料的光催化性能研究 | 第74-76页 |
| 4.4.1 光催化性能分析 | 第74-75页 |
| 4.4.2 光催化机理分析 | 第75-76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-78页 |
| 第五章 结论与展望 | 第78-82页 |
| 5.1 结论 | 第78-79页 |
| 5.2 展望 | 第79-80页 |
| 5.3 创新点 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-92页 |
| 附录 文章及荣誉 | 第92页 |
