摘要 | 第5-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-16页 |
1.1 研究工作的背景与意义 | 第10-12页 |
1.1.1 研究背景 | 第10-11页 |
1.1.2 研究意义 | 第11-12页 |
1.2 SAR弹射式干扰技术动态 | 第12-13页 |
1.3 SAR抗弹射式干扰技术 | 第13-14页 |
1.4 论文主要研究内容和安排 | 第14-16页 |
第二章 SAR弹射式干扰原理 | 第16-30页 |
2.1 引言 | 第16页 |
2.2 SAR干扰技术介绍 | 第16-17页 |
2.3 SAR成像的基本原理 | 第17-19页 |
2.3.1 SAR回波信号模型 | 第17-18页 |
2.3.2 SAR成像原理 | 第18-19页 |
2.4 弹射式干扰原理 | 第19-25页 |
2.4.1 弹射式干扰几何模型 | 第19-20页 |
2.4.2 弹射式干扰信号模型 | 第20-23页 |
2.4.3 弹射式干扰仿真实验 | 第23-25页 |
2.5 分布式弹射干扰原理 | 第25-28页 |
2.5.1 分布式弹射干扰几何模型 | 第25-26页 |
2.5.2 分布式弹射干扰信号模型 | 第26-27页 |
2.5.3 分布式弹射干扰仿真实验 | 第27-28页 |
2.6 传统SAR弹射式干扰存在的问题 | 第28-29页 |
2.7 本章小结 | 第29-30页 |
第三章 弹射式干扰方法研究 | 第30-54页 |
3.1 引言 | 第30页 |
3.2 弹射式干扰成像过程研究 | 第30-37页 |
3.2.1 距离-多普勒算法 | 第30-32页 |
3.2.2 距离向压缩 | 第32-35页 |
3.2.3 方位向压缩 | 第35-37页 |
3.3 弹射式干扰成像位置研究 | 第37-49页 |
3.3.1 干扰机位置参数对成像位置的影响 | 第37-44页 |
3.3.2 干扰机转发时延对成像位置的影响 | 第44-49页 |
3.4 分布式弹射干扰 | 第49-53页 |
3.4.1 多干扰机位置布局研究 | 第49-51页 |
3.4.2 多样式分布式弹射干扰 | 第51-53页 |
3.5 本章小结 | 第53-54页 |
第四章 抗弹射式干扰方法研究 | 第54-76页 |
4.1 引言 | 第54页 |
4.2 双路对消抑制弹射式干扰 | 第54-55页 |
4.3 干扰信号重建抗弹射式干扰 | 第55-70页 |
4.3.1 干扰信号重建方法原理 | 第55-56页 |
4.3.2 基于泰勒级数展开求解干扰机位置方法研究 | 第56-61页 |
4.3.3 误差因子分析 | 第61-65页 |
4.3.4 干扰机方位向位置的稳健性研究 | 第65-66页 |
4.3.5 基于最小二乘求解干扰机位置方法研究 | 第66-70页 |
4.4 抗弹射式干扰仿真 | 第70-75页 |
4.4.1 基于泰勒级数展开的抗弹射式干扰仿真 | 第71-73页 |
4.4.2 基于最小二乘的抗弹射式干扰仿真 | 第73-75页 |
4.5 本章小结 | 第75-76页 |
第五章 全文总结与展望 | 第76-78页 |
5.1 全文总结 | 第76-77页 |
5.2 后续工作展望 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-82页 |