近表层微结构红外辐射特性
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-14页 |
| 符号表 | 第14-18页 |
| 第1章 绪论 | 第18-26页 |
| ·研究背景及意义 | 第18-19页 |
| ·微纳米结构热辐射特性的研究现状 | 第19-23页 |
| ·随机粗糙表面热辐射特性的研究现状 | 第19-21页 |
| ·表面微加工周期性结构热辐射特性的研究现状 | 第21-22页 |
| ·人工介质材料热辐射特性的研究现状 | 第22-23页 |
| ·微结构辐射特性数值计算方法概况 | 第23-24页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 微结构辐射特性的数值模拟方法 | 第26-36页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·Maxwell方程组与本构关系 | 第26-27页 |
| ·时域有限差分法(FDTD)的基本原理 | 第27-32页 |
| ·Maxwell旋度方程的差分离散型式 | 第27-28页 |
| ·直角坐标系中的FDTD离散 | 第28-29页 |
| ·基于Drude模型的FDTD离散 | 第29-30页 |
| ·PML吸收边界条件 | 第30-32页 |
| ·时间离散间隔的稳定性要求 | 第32页 |
| ·严格耦合波分析方法(RCWA) | 第32-35页 |
| ·几何模型 | 第32-33页 |
| ·电磁场Fourier展开 | 第33-35页 |
| ·数值方法验证 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 随机粗糙微结构表面的红外辐射特性 | 第36-66页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·氧化膜对一维随机粗糙铝表面双向反射特性影响 | 第36-40页 |
| ·一维随机粗糙表面模型 | 第36-38页 |
| ·数值计算结果及分析 | 第38-40页 |
| ·水膜对一维随机粗糙表面双向反射特性影响 | 第40-42页 |
| ·氧化膜对二维随机粗糙硅表面双向反射特性影响 | 第42-49页 |
| ·二维随机粗糙表面模型 | 第42-44页 |
| ·数值计算结果及分析 | 第44-49页 |
| ·部分相干与几何光学混合(HPCGO)方法 | 第49-54页 |
| ·粗糙铝表面辐射特性实验测量结果与分析 | 第54-65页 |
| ·实验台介绍 | 第54-55页 |
| ·BRDF测量及数据处理 | 第55-57页 |
| ·实验测量结果与分析 | 第57-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第4章 表面微加工周期性结构的红外辐射特性 | 第66-78页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·矩形金属光栅结构红外辐射特性 | 第66-70页 |
| ·矩形光栅结构及LC电路模型 | 第66-68页 |
| ·数值计算结果及分析 | 第68-70页 |
| ·矩形非金属及复合光栅结构红外辐射特性 | 第70-74页 |
| ·光栅辐射特性实验测量结果与分析 | 第74-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第5章 表面氧化和加工误差对光栅辐射特性影响 | 第78-95页 |
| ·引言 | 第78页 |
| ·氧化膜对光栅表面红外辐射特性的影响 | 第78-86页 |
| ·光栅几何结构模型 | 第78-79页 |
| ·计算结果及讨论 | 第79-86页 |
| ·微加工误差对光栅表面红外辐射特性的影响 | 第86-94页 |
| ·光栅几何结构模型 | 第86-87页 |
| ·计算结果及讨论 | 第87-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 第6章 微结构光学黑洞的红外辐射特性 | 第95-122页 |
| ·引言 | 第95页 |
| ·光学平板 | 第95-103页 |
| ·梯度折射率薄膜辐射特性分析 | 第95-97页 |
| ·光学平板的红外辐射特性分析 | 第97-103页 |
| ·椭圆柱形光学黑洞 | 第103-109页 |
| ·椭圆柱形光学黑洞结构模型和光线轨迹分析 | 第104-105页 |
| ·椭圆柱形光学黑洞红外辐射特性分析 | 第105-109页 |
| ·方柱形光学黑洞 | 第109-116页 |
| ·方柱形光学黑洞结构模型 | 第109-110页 |
| ·方柱形光学黑洞红外辐射特性分析 | 第110-116页 |
| ·方柱形光学黑洞的材料选择与加工工艺研究 | 第116-121页 |
| ·本章小结 | 第121-122页 |
| 结论 | 第122-124页 |
| 参考文献 | 第124-132页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第132-135页 |
| 致谢 | 第135-136页 |
| 个人简历 | 第136页 |
