| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·光催化技术概述 | 第9-13页 |
| ·半导体光催化技术的发展 | 第9页 |
| ·半导体光催化机理 | 第9-12页 |
| ·半导体光催化剂的应用 | 第12-13页 |
| ·纳米 TiO_2光催剂改性研究进展 | 第13-20页 |
| ·金属离子掺杂 | 第14-15页 |
| ·贵金属沉积 | 第15-16页 |
| ·表面光敏化 | 第16页 |
| ·光催化剂复合 | 第16-17页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第17-20页 |
| ·g-C_3N_4/TiO_2复合光催化材料的研究 | 第20-22页 |
| ·纳米 TiO_2光催化材料的制备 | 第20-21页 |
| ·新型 g-C_3N_4光催化材料 | 第21页 |
| ·g-C_3N_4/TiO_2复合光催化剂 | 第21-22页 |
| ·本论文的目的意义及研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-31页 |
| ·实验试剂 | 第23页 |
| ·实验仪器与装置 | 第23-26页 |
| ·实验仪器 | 第23-24页 |
| ·实验装置 | 第24-26页 |
| ·g-C_3N_4/TiO_2复合光催化剂的制备 | 第26-27页 |
| ·样品的制备 | 第26-27页 |
| ·光催化剂的表征方法 | 第27-29页 |
| ·X 射线衍射表征方法 | 第27页 |
| ·比表面积和孔径分布 | 第27页 |
| ·FT-IR 表征方法 | 第27-28页 |
| ·X 射线光电子能谱表征方法 | 第28页 |
| ·TEM 表征方法 | 第28页 |
| ·紫外 -可见吸收光谱表征方法 | 第28-29页 |
| ·荧光光谱表征方法 | 第29页 |
| ·光催化剂的活性评价 | 第29-31页 |
| ·液相光催化活性评价 | 第29-30页 |
| ·气相光催化活性评价 | 第30-31页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第31-44页 |
| ·纳米 TiO_2光催化剂的表征 | 第31-39页 |
| ·XRD 分析 | 第31-32页 |
| ·吸附等温线和孔径分布 | 第32-33页 |
| ·FT-IR 分析 | 第33页 |
| ·XPS 分析 | 第33-34页 |
| ·TEM 分析 | 第34-35页 |
| ·UV-Vis 分析 | 第35-37页 |
| ·FS 分析 | 第37-39页 |
| ·液相光催化活性的研究 | 第39-42页 |
| ·对照试验 | 第39页 |
| ·三聚氰胺与 TiO_2的配比对光催化活性的影响 | 第39-40页 |
| ·煅烧温度对光催化活性的影响 | 第40-41页 |
| ·不同煅烧时间对 TiO_2光催化活性的影响 | 第41-42页 |
| ·气相光催化活性的研究 | 第42-43页 |
| ·g-C_3N_4/TiO_2复合光催化剂光催化机理 | 第43-44页 |
| 结论与建议 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-59页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间所发表论文和参加科研情况说明 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
