| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O国内外发展现状 | 第8-9页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的基本性质 | 第9-16页 |
| ·ZnO材料的基本性能 | 第9-12页 |
| ·MgO材料的基本性能 | 第12-13页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O的性能 | 第13-16页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O材料的制备方法 | 第16-18页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O材料的应用 | 第18-19页 |
| ·紫外光探测器 | 第18页 |
| ·太阳能电池 | 第18-19页 |
| ·发光器件 | 第19页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 溅射靶材的制备与性能研究 | 第20-24页 |
| ·溅射靶材的制备 | 第20页 |
| ·靶材的表征 | 第20页 |
| ·结果与讨论 | 第20-24页 |
| ·成型压力对溅射靶材的性能影响 | 第20-21页 |
| ·烧结温度对靶材性能的影响 | 第21-24页 |
| 第三章 Mg_xZn_(1-x)O薄膜的射频磁控溅射法制备 | 第24-28页 |
| ·射频磁控溅射法的原理 | 第24页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的制备 | 第24-28页 |
| ·薄膜的制备流程 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射设备及材料 | 第25页 |
| ·衬底的清洗工艺 | 第25-26页 |
| ·溅射过程 | 第26页 |
| ·溅射工艺参数 | 第26-28页 |
| 第四章 Mg_xZn_(1-x)O薄膜的性能研究 | 第28-43页 |
| ·溅射功率对Mg_xZn_(1-x)O薄膜的影响 | 第28-32页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的透光性能 | 第28-30页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的晶体结构 | 第30-31页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的表面形貌 | 第31-32页 |
| ·衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O薄膜的影响 | 第32-34页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的晶体结构 | 第32-33页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的吸收光谱 | 第33页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的发光性能 | 第33-34页 |
| ·溅射时间对Mg_xZn_(1_x)O薄膜的影响 | 第34-37页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的晶体结构 | 第34-36页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的表面形貌 | 第36页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的吸收光谱 | 第36-37页 |
| ·衬底对Mg_xZn_(1-x)O薄膜的影响 | 第37-39页 |
| ·不同衬底的Mg_xZn_(1-x)O薄膜的晶体结构 | 第37-38页 |
| ·不同衬底的Mg_xZn_(1-x)O薄膜的表面形貌 | 第38-39页 |
| ·退火温度对Mg_xZn_(1-x)O薄膜的影响 | 第39-43页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的晶体结构 | 第39-40页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的发光性能 | 第40-41页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的表面形貌 | 第41-43页 |
| 第五章 紫外探测器的制备及性能 | 第43-46页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O紫外探测器的制备 | 第43-44页 |
| ·紫外探测器的I-V特性 | 第44-45页 |
| ·紫外探测器的光谱响应特性 | 第45-46页 |
| 结论 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
