摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
重要符号表 | 第12-13页 |
缩略词表 | 第13-14页 |
图序 | 第14-15页 |
表序 | 第15-16页 |
第1章 绪论 | 第16-33页 |
·研究背景和意义 | 第16-17页 |
·高介电陶瓷/聚合物复合材料研究进展 | 第17-25页 |
·电介质及其表征 | 第17-20页 |
·电介质及其极化 | 第17-18页 |
·电介质的介电性能 | 第18-20页 |
·聚合物基复合材料 | 第20-22页 |
·两相复合材料 | 第20-22页 |
·三相复合材料 | 第22页 |
·高介电聚合物基复合材料介电常数模型 | 第22-25页 |
·Maxwell-Garnett 模型 | 第23-24页 |
·Jaysundere-Smith 模型 | 第24页 |
·Yamada 模型 | 第24-25页 |
·渗流理论 | 第25页 |
·钛酸铜钙研究进展 | 第25-31页 |
·CCTO 巨介电机理 | 第26-27页 |
·CCTO 制备技术 | 第27-29页 |
·CCTO 介电性能的改善 | 第29-31页 |
·PVDF(聚偏氟乙烯) | 第31-32页 |
·主要研究内容 | 第32-33页 |
第2章 CCTO/PVDF 复合薄膜的制备及介电性能研究 | 第33-47页 |
·引言 | 第33页 |
·实验 | 第33-37页 |
·CCTO/PVDF 复合薄膜的制备 | 第35-37页 |
·结构表征及性能测试 | 第37页 |
·结果与讨论 | 第37-45页 |
·CCTO/PVDF 复合薄膜微观形貌分析(SEM) | 第37-39页 |
·CCTO/PVDF 复合薄膜晶体结构分析(XRD) | 第39-40页 |
·CCTO/PVDF 复合薄膜的介电性能 | 第40-43页 |
·实验结果与理论模型的对比分析 | 第43-44页 |
·CCTO/PVDF 复合薄膜耐压强度及储能密度 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
第3章 KH560@CCTO/PVDF 复合薄膜的制备及介电性能研究 | 第47-58页 |
·引言 | 第47页 |
·实验 | 第47-50页 |
·KH560@CCTO/PVDF 复合薄膜的制备 | 第48页 |
·结构表征及性能测试 | 第48-50页 |
·结果与分析 | 第50-56页 |
·KH560@CCTO 红外分析(FT-IR) | 第50-51页 |
·KH560@CCTO 复合薄膜微观形貌分析(SEM) | 第51-53页 |
·KH560@CCTO 复合薄膜晶体结构分析(XRD) | 第53-54页 |
·KH560@CCTO/PVDF 复合薄膜介电性能 | 第54-56页 |
·KH560@CCTO/PVDF 复合薄膜耐压强度及储能密度 | 第56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
第4章 Ag/PVDF 复合薄膜的制备及介电性能研究 | 第58-65页 |
·引言 | 第58页 |
·实验 | 第58-59页 |
·Ag/PVDF 复合薄膜的制备 | 第58-59页 |
·结构表征及性能测试 | 第59页 |
·结果与分析 | 第59-64页 |
·Ag/PVDF 复合薄膜微观形貌分析(SEM) | 第59-60页 |
·纳米 Ag/PVDF 复合薄膜介电性能 | 第60-62页 |
·最佳纳米 Ag 粉量的确定 | 第62-63页 |
·Ag/PVDF 复合薄膜耐压强度及储能密度 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第5章 Ag/CCTO/PVDF 复合薄膜的制备及介电性能研究 | 第65-72页 |
·引言 | 第65页 |
·实验 | 第65-67页 |
·Ag/CCTO/PVDF 复合薄膜的制备 | 第65-66页 |
·结构表征及性能测试 | 第66-67页 |
·结果及分析 | 第67-71页 |
·Ag/CCTO/PVDF 复合薄膜微观形貌分析(SEM) | 第67-68页 |
·Ag/CCTO/PVDF 复合薄膜晶体结构分析(XRD) | 第68-69页 |
·Ag/CCTO/PVDF 复合薄膜介电性能分析 | 第69-70页 |
·Ag/CCTO/PVDF 复合薄膜耐压强度及储能密度 | 第70-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
第6章 结论与展望 | 第72-74页 |
·主要结论和创新点 | 第72-73页 |
·展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-78页 |
攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第78-79页 |
致谢 | 第79页 |