多孔氧化铝薄膜的光学性能调控
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-35页 |
| ·光子晶体 | 第9-18页 |
| ·基本概念 | 第9-11页 |
| ·光子晶体基本特征 | 第11-12页 |
| ·光子晶体的应用 | 第12-14页 |
| ·光子晶体制备方法 | 第14-18页 |
| ·氧化铝薄膜类光子晶体研究动态 | 第18-22页 |
| ·一维光子晶体基本理论与相关实验 | 第22-26页 |
| ·本文的研究意义和研究内容 | 第26-28页 |
| ·研究意义 | 第26-27页 |
| ·研究内容 | 第27-28页 |
| 参考文献 | 第28-35页 |
| 第二章 电流控制模式下氧化铝薄膜的制作 | 第35-70页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·实验过程及薄膜表征 | 第36-37页 |
| ·实验设备 | 第36页 |
| ·实验过程 | 第36-37页 |
| ·氧化铝薄膜的结构和光学性能表征 | 第37页 |
| ·电流模式下氧化铝薄膜的孔道结构模型 | 第37-39页 |
| ·方波电流氧化下的氧化铝薄膜 | 第39-43页 |
| ·上下限电流持续时间的影响 | 第40-41页 |
| ·上下限电流数值的影响 | 第41-43页 |
| ·锯齿波电流氧化下的氧化铝薄膜 | 第43-48页 |
| ·占空比对薄膜光子带隙的影响 | 第44-45页 |
| ·上限电流对薄膜光子带隙的影响 | 第45-47页 |
| ·周期时间对薄膜光子带隙的影响 | 第47-48页 |
| ·正弦波电流氧化下的氧化铝薄膜 | 第48-54页 |
| ·周期数对薄膜光子带隙的影响 | 第48-49页 |
| ·周期时间对薄膜光子带隙的影响 | 第49-53页 |
| ·上下限电流对薄膜光子带隙的影响 | 第53-54页 |
| ·温度对氧化铝薄膜结构和光子带隙的影响 | 第54-57页 |
| ·溶液组分对氧化铝薄膜结构和光子带隙的影响 | 第57-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 第三章 含缺陷氧化铝薄膜的制备及其光学性能研究 | 第70-86页 |
| ·引言 | 第70页 |
| ·实验过程及薄膜表征 | 第70-71页 |
| ·铝片的阳极氧化 | 第70-71页 |
| ·氧化铝薄膜的表征 | 第71页 |
| ·恒压53V制备含缺陷的氧化铝薄膜 | 第71-73页 |
| ·恒压30V制备含缺陷的氧化铝薄膜 | 第73-76页 |
| ·缺陷厚度对氧化铝薄膜的影响 | 第74-75页 |
| ·缺陷位置对氧化铝薄膜的影响 | 第75-76页 |
| ·其它电压波形制备的含缺陷氧化铝薄膜 | 第76-82页 |
| ·缺陷引入电压波形(Ⅰ)对氧化铝薄膜的影响 | 第77-78页 |
| ·缺陷引入电压波形(Ⅱ)对氧化铝薄膜的影响 | 第78-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-86页 |
| 第四章 窄带隙氧化铝薄膜应用探讨 | 第86-91页 |
| ·引言 | 第86页 |
| ·实验过程及薄膜传感测试 | 第86页 |
| ·氧化铝薄膜对液体的光谱响应 | 第86-88页 |
| ·化学修饰对氧化铝薄膜窄带隙的影响 | 第88-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-91页 |
| 第五章 含缺陷氧化铝薄膜的光学防伪设计 | 第91-95页 |
| ·引言 | 第91页 |
| ·局部含缺陷的氧化铝薄膜制备过程 | 第91-92页 |
| ·含缺陷氧化铝薄膜的微观结构和红外光学功能 | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 第六章 总结与展望 | 第95-97页 |
| ·全文工作总结 | 第95页 |
| ·展望 | 第95-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 攻读博士期间发表论文情况 | 第98页 |
