| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·纳米材料的概述 | 第9页 |
| ·ZnO 纳米材料的研究现状与进展 | 第9-14页 |
| ·ZnO 的基本结构与性质 | 第9-10页 |
| ·ZnO 纳米材料的制备 | 第10-11页 |
| ·ZnO 纳米材料的掺杂 | 第11-13页 |
| ·ZnO 纳米材料的修饰 | 第13-14页 |
| ·本论文所研究的内容 | 第14-15页 |
| 2 Bi 催化生长 ZnO 纳米线的制备与性质研究 | 第15-33页 |
| ·实验原料 | 第15-16页 |
| ·仪器设备 | 第16页 |
| ·实验过程 | 第16-18页 |
| ·清洗硅片 | 第16-17页 |
| ·催化生长ZnO 纳米线 | 第17-18页 |
| ·实验结果的影响因素 | 第18-24页 |
| ·反应温度对结果的影响 | 第18-21页 |
| ·反应压强对结果的影响 | 第21-23页 |
| ·氧分压对结果的影响 | 第23-24页 |
| ·Bi 催化生长的ZnO 纳米线的表征与性能分析 | 第24-32页 |
| ·成分分析 | 第24-25页 |
| ·结构分析 | 第25-27页 |
| ·光致发光性能 | 第27-29页 |
| ·接触角测量 | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 3 Bi 掺杂 ZnO 纳米线的制备与性质研究 | 第33-40页 |
| ·实验原料和设备 | 第33-34页 |
| ·实验过程 | 第34-35页 |
| ·基片清洗 | 第34页 |
| ·衬底镀金 | 第34页 |
| ·实验 | 第34-35页 |
| ·实验结果及性能表征 | 第35-39页 |
| ·形貌分析 | 第35页 |
| ·结构分析 | 第35-36页 |
| ·成分分析 | 第36-38页 |
| ·光致发光性能分析 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 4 Bi 修饰的 ZnO 纳米线复合物的制备与研究 | 第40-53页 |
| ·化学气相沉积法制备ZnO 纳米线阵列 | 第40-42页 |
| ·实验原料及设备 | 第41页 |
| ·实验过程 | 第41-42页 |
| ·水热法对ZnO 纳米线阵列进行修饰 | 第42-43页 |
| ·实验原料及设备 | 第42页 |
| ·实验过程 | 第42-43页 |
| ·表征与性能研究 | 第43-52页 |
| ·结构表征 | 第43-44页 |
| ·形貌表征 | 第44-45页 |
| ·成分分析 | 第45-47页 |
| ·光吸收谱 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 5 总结与展望 | 第53-55页 |
| ·全文总结 | 第53-54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| ·Bi 催化生长ZnO 纳米线 | 第54页 |
| ·Bi 掺杂ZnO 纳米线 | 第54页 |
| ·Bi 修饰ZnO 纳米线 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 附录 1 攻读硕士士学位期间发表和待发表的论文目录 | 第60页 |
