交替掺杂Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜制备及界面结构研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·BST 薄膜的研究背景及现状 | 第11页 |
| ·BST 掺杂改性的研究进展 | 第11-15页 |
| ·掺杂元素的研究 | 第12-14页 |
| ·掺杂方式的研究 | 第14-15页 |
| ·BST 薄膜材料的界面 | 第15-18页 |
| ·界面的定义 | 第15-16页 |
| ·界面的性质 | 第16页 |
| ·BST 薄膜界面的研究 | 第16-17页 |
| ·界面死层的研究 | 第17-18页 |
| ·论文的主要内容 | 第18-19页 |
| 第二章 BST薄膜制备及表征 | 第19-27页 |
| ·BST 薄膜的制备方法 | 第19-20页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第19页 |
| ·射频激光沉积 | 第19-20页 |
| ·有机金属化学气相沉积 | 第20页 |
| ·溶胶凝胶 | 第20页 |
| ·实验过程 | 第20-23页 |
| ·Sol-gel 的实验原理 | 第20页 |
| ·BST 薄膜制备 | 第20-23页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第23-25页 |
| ·薄膜结构和成分分析手段 | 第23-24页 |
| ·薄膜介电性能测试手段 | 第24-25页 |
| ·论文实验方案 | 第25-27页 |
| 第三章 交替掺杂BST薄膜界面结构 | 第27-48页 |
| ·掺杂多层 BST 界面研究 | 第27-36页 |
| ·表面界面结构 | 第28-31页 |
| ·一元掺杂 | 第28-29页 |
| ·二元交替掺杂 | 第29-31页 |
| ·薄膜层间及与基体间的界面结构 | 第31-36页 |
| ·未掺杂 BST 界面 | 第31-33页 |
| ·掺杂 BST 界面 | 第33-36页 |
| ·交替多层掺杂 BST 界面研究 | 第36-47页 |
| ·浓度影响 | 第36-42页 |
| ·K/Mg-BST 浓度分析 | 第36-40页 |
| ·Mg/K-BST 浓度分析 | 第40-42页 |
| ·层数影响 | 第42-47页 |
| ·Mg/K-BST 层数分析 | 第43-45页 |
| ·K/Mg-BST 层数分析 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 交替掺杂BST薄膜界面结构验证 | 第48-71页 |
| ·掺杂方式对 BST 薄膜介电性能影响 | 第48-53页 |
| ·介电性能测试结果 | 第48-50页 |
| ·XRD 分析 | 第50-52页 |
| ·可调性分析 | 第52页 |
| ·介电损耗分析 | 第52-53页 |
| ·交替掺杂 BST 薄膜性能的影响因素 | 第53-70页 |
| ·浓度影响 | 第53-62页 |
| ·调谐率分析 | 第53-55页 |
| ·介电损耗分析 | 第55-57页 |
| ·优值因子分析 | 第57页 |
| ·XPS 分析 | 第57-62页 |
| ·层数影响 | 第62-70页 |
| ·XRD 分析 | 第62-63页 |
| ·介电性能分析 | 第63-64页 |
| ·偏压特性分析 | 第64-66页 |
| ·频率特性分析 | 第66-67页 |
| ·交替顺序分析 | 第67-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第五章 总结 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
