ITO薄膜高温变形传感器研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| ·本课题的研究背景和意义 | 第9-10页 |
| ·高温变形测量发展现状 | 第10-11页 |
| ·高温变形监测与蠕变 | 第10页 |
| ·各种监测手段优劣比较 | 第10-11页 |
| ·应变片技术研究现状 | 第11-19页 |
| ·高温应变片的分类 | 第11-13页 |
| ·电阻式应变片的结构 | 第13-14页 |
| ·电阻式应变片的工作要求 | 第14-15页 |
| ·高温敏感栅材料 | 第15-19页 |
| ·高温应变材料研究进展 | 第19-23页 |
| ·高温半导体敏感栅材料 | 第19-21页 |
| ·ITO高温应变材料研究进展 | 第21-23页 |
| ·研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 ITO薄膜传感器的制备 | 第25-41页 |
| ·磁控溅射法制备ITO薄膜敏感栅 | 第25-31页 |
| ·磁控溅射技术 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射法制备ITO薄膜敏感栅 | 第26页 |
| ·薄膜的表征 | 第26-27页 |
| ·薄膜性能测试 | 第27-30页 |
| ·薄膜沉积参数的选择 | 第30-31页 |
| ·高温应变片的介电黏结层 | 第31-33页 |
| ·器件制备工艺 | 第33-34页 |
| ·传感器性能参数 | 第34-40页 |
| ·电阻温度系数随温度变化趋势 | 第34-36页 |
| ·灵敏度系数测量 | 第36-38页 |
| ·ITO薄膜敏感栅在高温下的灵敏度系数 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 传感器的稳定性研究 | 第41-53页 |
| ·温度稳定性研究 | 第41-45页 |
| ·沉积温度对晶态的影响 | 第41-43页 |
| ·退火对薄膜形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·时间稳定性研究 | 第45-49页 |
| ·零漂和蠕变 | 第45页 |
| ·初始漂移规律 | 第45-47页 |
| ·长时漂移规律 | 第47-48页 |
| ·热补偿与漂移补偿 | 第48-49页 |
| ·载荷稳定性研究 | 第49-52页 |
| ·加载过程中的阻值跳跃 | 第49-50页 |
| ·裂纹形成过程 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 传感器的优化 | 第53-60页 |
| ·Ag掺杂的影响 | 第53-58页 |
| ·对薄膜TCR的影响 | 第53-54页 |
| ·对表面形貌的影响 | 第54-57页 |
| ·对压阻效应的影响 | 第57-58页 |
| ·基底的影响 | 第58-59页 |
| ·基底的“减敏”作用 | 第58页 |
| ·基底的“储能器”作用 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 ITO薄膜传感器实际应用的问题 | 第60-64页 |
| ·与国际同行的比较 | 第60-61页 |
| ·漂移补偿 | 第60页 |
| ·工作性能 | 第60-61页 |
| ·国家标准校验 | 第61-62页 |
| ·与市售应变片性能比较 | 第62-63页 |
| ·应变片布置形式 | 第63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第6章 总结和展望 | 第64-67页 |
| ·本文主要工作总结 | 第64-65页 |
| ·创新点 | 第65页 |
| ·存在的问题和展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的相关科研成果 | 第73页 |
