摘要 | 第1-14页 |
ABSTRACT | 第14-19页 |
第一章 绪论 | 第19-28页 |
·椭圆偏振测量术 | 第19-21页 |
·椭圆偏振测量术的起源与发展 | 第19-20页 |
·椭圆偏振测量术的发展现状 | 第20-21页 |
·薄膜的制备、表征与应用 | 第21-25页 |
·薄膜的制备 | 第21页 |
·薄膜的表征 | 第21-25页 |
·超薄膜的应用 | 第25页 |
·论文的立题基础、研究思路以及主要内容 | 第25-28页 |
·立题基础 | 第25-26页 |
·研究思路 | 第26页 |
·主要研究内容 | 第26-28页 |
第二章 椭圆偏振测量术研究薄膜的方法 | 第28-45页 |
·椭圆偏振测量术的原理 | 第28-35页 |
·椭圆偏振测量术的技术优势 | 第35-36页 |
·椭圆偏振测量术数据分析的方法 | 第36-39页 |
·色散模型分析法 | 第36-38页 |
·点对点分析法 | 第38-39页 |
·椭圆偏振测量术研究超薄金属膜的难点 | 第39-41页 |
·椭圆偏振测量术研究超薄金属膜的国内外现状 | 第41-42页 |
·几种利用椭圆偏振测量术研究超薄膜的方法 | 第42-44页 |
·本章总结 | 第44-45页 |
第三章 二氧化硅钝化膜与氧化铋硒化铋超薄膜光学性质的研究 | 第45-62页 |
·PECVD法制备二氧化硅钝化膜的光学性质与成分研究 | 第45-53页 |
·二氧化硅薄膜的PECVD法制备 | 第46-47页 |
·二氧化硅薄膜的光谱椭偏研究 | 第47-50页 |
·二氧化硅薄膜的XPS研究 | 第50-53页 |
·氧化铋与硒化铋超薄膜光学性质的椭偏研究 | 第53-61页 |
·氧化铋与硒化铋超薄膜的制备与椭偏测量 | 第53-54页 |
·氧化铋与硒化铋超薄膜的光学性质研究 | 第54-61页 |
·本章总结 | 第61-62页 |
第四章 超薄铝膜光学性质的研究 | 第62-71页 |
·超薄铝膜的实验制备 | 第62-63页 |
·不同厚度超薄铝膜的光学性质研究 | 第63-69页 |
·模型的选择与优化 | 第64-68页 |
·不同厚度超薄铝膜的光学性质 | 第68-69页 |
·本章总结 | 第69-71页 |
第五章 纳米尺度钽膜的制备与其形貌和光学性质的研究 | 第71-81页 |
·纳米尺度钽膜的制备与条件控制 | 第71-73页 |
·磁控溅射法制备纳米尺度钽膜 | 第71-72页 |
·磁控溅射法制备纳米尺度钽膜的条件控制 | 第72-73页 |
·纳米尺度钽膜的表面形貌研究 | 第73-76页 |
·纳米尺度钽膜的光学性质的研究 | 第76-80页 |
·本章总结 | 第80-81页 |
第六章 超薄铁膜光学性质及其随厚度变化的研究 | 第81-94页 |
·不同厚度超薄铁膜的制备 | 第81-82页 |
·椭圆偏振结合透射法对不同厚度超薄铁膜光学性质的研究 | 第82-93页 |
·椭圆偏振结合透射法 | 第82-83页 |
·Matlab算法编写与优化 | 第83-87页 |
·超薄铁膜光学性质随厚度变化的研究 | 第87-93页 |
·本章总结 | 第93-94页 |
第七章 铁材料超薄自然氧化膜的光学性质研究 | 第94-104页 |
·铁材料的自然氧化与椭圆偏振测量 | 第94-96页 |
·等效衬底法 | 第96-99页 |
·超薄自然氧化膜的厚度与光学常数的研究 | 第99-103页 |
·超薄自然氧化膜厚度的测量 | 第99-100页 |
·铁材料超薄自然氧化膜光学性质的研究 | 第100-103页 |
·本章总结 | 第103-104页 |
第八章 宽温域可精确控温光谱式椭偏测量平台 | 第104-111页 |
·杜瓦瓶升级改造 | 第104-105页 |
·系统搭建 | 第105-108页 |
·砷化镓衬底光学性质的温度响应研究 | 第108-110页 |
·本章总结 | 第110-111页 |
第九章 全文总结 | 第111-115页 |
·主要研究内容 | 第111-113页 |
·主要创新点 | 第113页 |
·展望与建议 | 第113-115页 |
参考文献 | 第115-125页 |
致谢 | 第125-127页 |
博士期间已发表和待发表的学术论文及专利 | 第127-129页 |
附已发表外文论文两篇 | 第129-130页 |
附录 | 第130-143页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第143页 |