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纳米尺度薄膜的制备及其光学性质的椭偏研究

摘要第1-14页
ABSTRACT第14-19页
第一章 绪论第19-28页
   ·椭圆偏振测量术第19-21页
     ·椭圆偏振测量术的起源与发展第19-20页
     ·椭圆偏振测量术的发展现状第20-21页
   ·薄膜的制备、表征与应用第21-25页
     ·薄膜的制备第21页
     ·薄膜的表征第21-25页
     ·超薄膜的应用第25页
   ·论文的立题基础、研究思路以及主要内容第25-28页
     ·立题基础第25-26页
     ·研究思路第26页
     ·主要研究内容第26-28页
第二章 椭圆偏振测量术研究薄膜的方法第28-45页
   ·椭圆偏振测量术的原理第28-35页
   ·椭圆偏振测量术的技术优势第35-36页
   ·椭圆偏振测量术数据分析的方法第36-39页
     ·色散模型分析法第36-38页
     ·点对点分析法第38-39页
   ·椭圆偏振测量术研究超薄金属膜的难点第39-41页
   ·椭圆偏振测量术研究超薄金属膜的国内外现状第41-42页
   ·几种利用椭圆偏振测量术研究超薄膜的方法第42-44页
   ·本章总结第44-45页
第三章 二氧化硅钝化膜与氧化铋硒化铋超薄膜光学性质的研究第45-62页
   ·PECVD法制备二氧化硅钝化膜的光学性质与成分研究第45-53页
     ·二氧化硅薄膜的PECVD法制备第46-47页
     ·二氧化硅薄膜的光谱椭偏研究第47-50页
     ·二氧化硅薄膜的XPS研究第50-53页
   ·氧化铋与硒化铋超薄膜光学性质的椭偏研究第53-61页
     ·氧化铋与硒化铋超薄膜的制备与椭偏测量第53-54页
     ·氧化铋与硒化铋超薄膜的光学性质研究第54-61页
   ·本章总结第61-62页
第四章 超薄铝膜光学性质的研究第62-71页
   ·超薄铝膜的实验制备第62-63页
   ·不同厚度超薄铝膜的光学性质研究第63-69页
     ·模型的选择与优化第64-68页
     ·不同厚度超薄铝膜的光学性质第68-69页
   ·本章总结第69-71页
第五章 纳米尺度钽膜的制备与其形貌和光学性质的研究第71-81页
   ·纳米尺度钽膜的制备与条件控制第71-73页
     ·磁控溅射法制备纳米尺度钽膜第71-72页
     ·磁控溅射法制备纳米尺度钽膜的条件控制第72-73页
   ·纳米尺度钽膜的表面形貌研究第73-76页
   ·纳米尺度钽膜的光学性质的研究第76-80页
   ·本章总结第80-81页
第六章 超薄铁膜光学性质及其随厚度变化的研究第81-94页
   ·不同厚度超薄铁膜的制备第81-82页
   ·椭圆偏振结合透射法对不同厚度超薄铁膜光学性质的研究第82-93页
     ·椭圆偏振结合透射法第82-83页
     ·Matlab算法编写与优化第83-87页
     ·超薄铁膜光学性质随厚度变化的研究第87-93页
   ·本章总结第93-94页
第七章 铁材料超薄自然氧化膜的光学性质研究第94-104页
   ·铁材料的自然氧化与椭圆偏振测量第94-96页
   ·等效衬底法第96-99页
   ·超薄自然氧化膜的厚度与光学常数的研究第99-103页
     ·超薄自然氧化膜厚度的测量第99-100页
     ·铁材料超薄自然氧化膜光学性质的研究第100-103页
   ·本章总结第103-104页
第八章 宽温域可精确控温光谱式椭偏测量平台第104-111页
   ·杜瓦瓶升级改造第104-105页
   ·系统搭建第105-108页
   ·砷化镓衬底光学性质的温度响应研究第108-110页
   ·本章总结第110-111页
第九章 全文总结第111-115页
   ·主要研究内容第111-113页
   ·主要创新点第113页
   ·展望与建议第113-115页
参考文献第115-125页
致谢第125-127页
博士期间已发表和待发表的学术论文及专利第127-129页
附已发表外文论文两篇第129-130页
附录第130-143页
学位论文评阅及答辩情况表第143页

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