| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·稀土元素概述 | 第10-12页 |
| ·稀土发光材料概述 | 第12-14页 |
| ·稀土发光材料的发光方式 | 第12-13页 |
| ·稀土发光材料的研究现状 | 第13-14页 |
| ·稀土掺杂氧化锌的研究现状和发展前景 | 第14-16页 |
| ·氧化锌的性质和研究现状 | 第14-15页 |
| ·稀土掺杂氧化锌的研究现状和发展前景 | 第15-16页 |
| ·课题研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 ZnO:Eu~(3+)材料的制备方法和表征手段 | 第18-22页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)材料的制备方法 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18页 |
| ·沉淀法 | 第18-19页 |
| ·水热法 | 第19页 |
| ·磁控溅射法 | 第19页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)材料的表征手段 | 第19-21页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第19-20页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第20页 |
| ·荧光光谱分析 | 第20-21页 |
| ·拉曼光谱（Raman） | 第21页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 射频磁控溅射法 ZnO:Eu~(3+)薄膜的制备 | 第22-27页 |
| ·磁控溅射法 | 第22-24页 |
| ·磁控溅射的原理及特点 | 第22页 |
| ·磁控溅射的基本过程 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射的分类 | 第23-24页 |
| ·高真空多靶磁控溅射镀膜机 | 第24页 |
| ·射频磁控溅射法 ZnO:Eu~(3+)薄膜的制备 | 第24-26页 |
| ·工艺参数 | 第24-25页 |
| ·衬底的预处理 | 第25页 |
| ·射频磁控溅射系统的工艺流程 | 第25-26页 |
| ·退火工艺 | 第26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第4章 射频磁控溅射法 ZnO:Eu~(3+)薄膜的晶体结构和表面形貌表征 | 第27-34页 |
| ·射频磁控溅射法 ZnO:Eu~(3+)薄膜晶体结构分析 | 第27-30页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)薄膜样品制备的工艺参数 | 第27页 |
| ·XRD 结果与分析 | 第27-29页 |
| ·退火对 ZnO:Eu~(3+)薄膜晶体结构的影响 | 第29页 |
| ·衬底材料对 ZnO:Eu~(3+)薄膜晶体结构的影响 | 第29-30页 |
| ·射频磁控溅射法 ZnO:Eu~(3+)薄膜表面形貌分析 | 第30-33页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)薄膜样品制备的工艺参数 | 第30页 |
| ·SEM 结果与分析 | 第30-31页 |
| ·AFM 结果与分析 | 第31-33页 |
| ·退火对 ZnO:Eu~(3+)薄膜表面形貌的影响 | 第33页 |
| ·衬底材料对 ZnO:Eu~(3+)薄膜表面形貌的影响 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第5章 射频磁控溅射法 ZnO:Eu~(3+)薄膜发光性能 | 第34-42页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)薄膜样品的制备工艺参数 | 第34页 |
| ·硅衬底 ZnO:Eu~(3+)薄膜的发光性能 | 第34-37页 |
| ·蓝宝石衬底 ZnO:Eu~(3+)薄膜的发光性能 | 第37-40页 |
| ·退火对 ZnO:Eu~(3+)薄膜发光性能的影响 | 第40页 |
| ·衬底材料对 ZnO:Eu~(3+)薄膜发光性能的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 结论 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48页 |
