| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 概述 | 第10-18页 |
| ·太阳能的热利用 | 第10-11页 |
| ·太阳能光谱选择性吸收薄膜 | 第11-16页 |
| ·选择性吸收薄膜的工作原理 | 第11-12页 |
| ·选择性吸收薄膜的分类 | 第12-14页 |
| ·选择性吸收薄膜的制备工艺 | 第14-16页 |
| ·膜系设计和工艺选择 | 第16-17页 |
| ·本课题的主要内容和研究意义 | 第17-18页 |
| ·主要内容 | 第17页 |
| ·研究意义 | 第17-18页 |
| 第二章 薄膜制备和检测 | 第18-25页 |
| ·磁控溅射技术 | 第18-20页 |
| ·溅射技术基础 | 第18页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第18-19页 |
| ·反应磁控溅射简介 | 第19-20页 |
| ·薄膜制备 | 第20-22页 |
| ·磁控溅射设备介绍 | 第20-21页 |
| ·基底材料及预处理 | 第21页 |
| ·薄膜的制备工艺流程 | 第21-22页 |
| ·薄膜检测手段 | 第22-25页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第22-23页 |
| ·薄膜反射率的测量 | 第23页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第23-24页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第24-25页 |
| 第三章 单层 Cr-Cr_2O_3金属陶瓷薄膜的性能研究 | 第25-35页 |
| ·Cr2O3薄膜 | 第25-27页 |
| ·沉积 Cr-Cr_2O_3薄膜的最优工艺参数 | 第25-26页 |
| ·最优工艺条件下 Cr-Cr_2O_3薄膜的性能分析 | 第26-27页 |
| ·反应溅射工艺对薄膜物相成分的影响 | 第27-32页 |
| ·溅射时间对 Cr-Cr_2O_3薄膜物相成分的影响 | 第27-28页 |
| ·氧气流量对 Cr-Cr_2O_3薄膜物相成分的影响 | 第28-30页 |
| ·溅射功率对 Cr-Cr_2O_3薄膜物相成分的影响 | 第30-32页 |
| ·反应溅射工艺对薄膜厚度的影响 | 第32-34页 |
| ·溅射时间对薄膜 Cr-Cr_2O_3厚度的影响 | 第32-33页 |
| ·靶基距对薄膜 Cr-Cr_2O_3厚度的影响 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 双吸收层 Cr-Cr_2O_3干涉型选择吸收薄膜特性研究 | 第35-43页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·双吸收层薄膜厚度对光学性能的影响 | 第35-37页 |
| ·低金属含量层中金属相含量对薄膜光学性能的影响 | 第37-39页 |
| ·高金属含量层中金属相含量对薄膜光学性能的影响 | 第39-40页 |
| ·优化工艺条件下制备选择性吸收薄膜的性能分析 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 第五章 总结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表学术论文目录 | 第49页 |
