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基于超常媒质的新型隐身技术研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-21页
   ·课题背景第9-13页
     ·隐身技术发展概述第9-11页
     ·超常媒质概述第11-13页
   ·超常媒质隐身技术国内外研究现状第13-18页
     ·国外研究现状分析第13-17页
     ·国内研究现状分析第17-18页
   ·本文研究的目的、内容和意义第18-21页
第2章 超常媒质完美隐身特性的变换媒质理论第21-36页
   ·引言第21-22页
   ·变换媒质理论基础第22-27页
     ·麦克斯韦—闵可夫斯基方程与张量第22-24页
     ·几何映射与媒质变换第24-27页
   ·三种正交坐标系下的媒质变换第27-29页
   ·圆柱完美隐身罩模型研究与分析第29-35页
   ·本章小结第35-36页
第3章 超常媒质隐身机理的散射场缩减理论分析第36-51页
   ·引言第36页
   ·散射场缩减理论第36-38页
   ·小球均匀超常媒质隐身罩散射特性分析第38-46页
     ·解析方法第38-44页
     ·数值仿真验证第44-46页
   ·球体完美隐身罩散射特性解析分析第46-49页
   ·本章小结第49-51页
第4章 新型超常媒质隐身罩的设计与优化第51-66页
   ·引言第51页
   ·均匀媒质空间阻抗匹配特性研究第51-56页
   ·圆柱完美隐身罩简化模型设计与优化第56-65页
   ·本章小结第65-66页
结论第66-68页
参考文献第68-73页
附录第73-74页
攻读学位期间发表的学术论文第74-77页
致谢第77页

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