新型铋系光催化剂的制备及其光催化性能研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·光催化反应机理 | 第10-14页 |
| ·半导体光催化反应机理 | 第10-11页 |
| ·贵金属沉积半导体的光催化反应机理 | 第11-12页 |
| ·贵金属沉积无定形碳的光催化反应机理 | 第12-14页 |
| ·光催化剂的制备方法 | 第14-18页 |
| ·高温固相反应法 | 第14-15页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第15-16页 |
| ·模板法 | 第16页 |
| ·分子自组装法 | 第16-17页 |
| ·水热或溶剂热法 | 第17-18页 |
| ·光催化剂的表征方法 | 第18-22页 |
| ·X-射线粉末衍射仪 | 第18页 |
| ·透射电子显微镜 | 第18-20页 |
| ·N_2吸附-脱附物理吸附仪 | 第20页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第20-21页 |
| ·氙灯光催化反应仪 | 第21-22页 |
| ·铋基复合氧化物的研究状况 | 第22-23页 |
| ·本论文的研究意义及内容 | 第23-25页 |
| 第二章 形貌可控的硅酸铋的制备及其应用 | 第25-42页 |
| ·前言 | 第25-26页 |
| ·实验部分 | 第26-28页 |
| ·试剂 | 第26页 |
| ·催化剂制备 | 第26-27页 |
| ·材料表征 | 第27页 |
| ·光催化活性评估 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-40页 |
| ·XRD 的分析 | 第28-29页 |
| ·TEM 的分析 | 第29-32页 |
| ·形貌合成机理的分析 | 第32-33页 |
| ·光催化活性的研究 | 第33-38页 |
| ·改变 Si 源的研究 | 第38-40页 |
| ·结论 | 第40-42页 |
| 第三章 铋系光催化剂钨酸铋、钼酸铋的制备及其表征 | 第42-58页 |
| ·前言 | 第42页 |
| ·实验部分 | 第42-44页 |
| ·试剂 | 第42-43页 |
| ·催化剂的制备 | 第43-44页 |
| ·材料表征 | 第44页 |
| ·BWO 的表征结果与讨论 | 第44-51页 |
| ·XRD 的分析 | 第44-45页 |
| ·TEM 的分析 | 第45-46页 |
| ·光催化活性的研究 | 第46-48页 |
| ·反应温度对光催化活性的影响 | 第48-51页 |
| ·MO-BMO 的表征结果与讨论 | 第51-56页 |
| ·MoO3纳米带的分析 | 第51-53页 |
| ·XRD 的分析 | 第53-54页 |
| ·光催化活性的分析 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 新型光催化剂的改性研究 | 第58-73页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·硅酸铋纳米带负载金的研究 | 第59-64页 |
| ·催化剂的制备 | 第59页 |
| ·催化剂的表征 | 第59-60页 |
| ·催化剂的活性测试 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-64页 |
| ·X 射线粉末衍射图谱分析 | 第60-61页 |
| ·紫外-可见固体漫反射图谱分析 | 第61-62页 |
| ·TEM 图谱分析 | 第62页 |
| ·光催化活性的分析 | 第62-64页 |
| ·新型壳核结构光催化剂 Au@C 的研究 | 第64-71页 |
| ·实验部分 | 第64-66页 |
| ·催化剂的制备 | 第64-65页 |
| ·催化剂的表征 | 第65页 |
| ·催化剂的活性测试 | 第65页 |
| ·Au@C 的重复性实验 | 第65-66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-71页 |
| ·X 射线粉末衍射图谱分析 | 第66-67页 |
| ·透射电子显微镜图像分析 | 第67页 |
| ·紫外-可见吸收图谱分析 | 第67-68页 |
| ·催化剂活性的分析 | 第68-70页 |
| ·Au@C 的重复催化利用分析 | 第70-71页 |
| ·结论 | 第71-73页 |
| 全文总结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 附录 攻读硕士期间发表的学术论文和所获奖励 | 第85页 |
