| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第5-20页 |
| 前言 | 第5页 |
| ·巨磁电阻效应与自旋电子学 | 第5-11页 |
| ·巨磁电阻效应 | 第7-8页 |
| ·自旋电子学的研究现状 | 第8-11页 |
| ·铁磁/反铁磁交换偏置 | 第11-19页 |
| ·交换偏置的基本特征 | 第11-15页 |
| ·纳米结构中的交换偏置 | 第15-19页 |
| ·本论文的选题和研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 样品的制备及其性质表征 | 第20-31页 |
| ·胶体模板的制备 | 第20-24页 |
| ·薄膜的制备 | 第24-27页 |
| ·辉光放电原理 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射技术 | 第25-26页 |
| ·JGP560D超高真空磁控溅射仪 | 第26-27页 |
| ·膜厚的测量 | 第27页 |
| ·薄膜的表征 | 第27-29页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第27-28页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第28-29页 |
| ·薄膜性能的测量 | 第29-31页 |
| 第三章 FeNi/FeMn纳米球帽结构中的交换偏置 | 第31-38页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·样品的制备 | 第31-32页 |
| ·实验结果与讨论 | 第32-38页 |
| 参考文献 | 第38-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |