| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-11页 |
| 第二章 ZnO量子点的性质与研究进展 | 第11-30页 |
| ·ZnO材料的基本特点 | 第11页 |
| ·量子点的基本特征 | 第11-14页 |
| ·量子点的定义 | 第11-12页 |
| ·量子尺寸效应 | 第12页 |
| ·表面效应 | 第12-13页 |
| ·量子限域效应 | 第13页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第13页 |
| ·有效质量模型 | 第13-14页 |
| ·ZnO量子点的性能 | 第14-18页 |
| ·ZnO量子点的光学禁带宽度 | 第14-15页 |
| ·ZnO量子点的电学性能 | 第15-16页 |
| ·ZnO量子点的光学性能 | 第16-18页 |
| ·ZnO量子点的研究进展 | 第18-22页 |
| ·退火对ZnO量子点的影响 | 第18-19页 |
| ·ZnO量子点的表面修饰 | 第19-21页 |
| ·掺杂的ZnO量子点及多元合金氧化物量子点 | 第21-22页 |
| ·ZnO量子点的制备方法和生长机理 | 第22-27页 |
| ·ZnO量子点的制备方法 | 第22-24页 |
| ·ZnO量子点的生长机理 | 第24-27页 |
| ·胶体ZnO量子点的生长和聚集机制 | 第27页 |
| ·ZnO量子点的应用 | 第27-28页 |
| ·量子点激光器 | 第28页 |
| ·单电子隧穿器件(单电子晶体管) | 第28页 |
| ·本论文的主要工作 | 第28-30页 |
| 第三章 实验方法及测试手段 | 第30-37页 |
| ·MOCVD的原理和工艺 | 第30-32页 |
| ·MOCVD的原理 | 第30页 |
| ·MOCVD设备 | 第30-32页 |
| ·MOCVD技术的优点和应用 | 第32-33页 |
| ·实验 | 第33-35页 |
| ·实验原料 | 第33页 |
| ·衬底清洗 | 第33-34页 |
| ·实验步骤 | 第34-35页 |
| ·材料的表征 | 第35-37页 |
| 第四章 ZnO量子点的基本性能 | 第37-45页 |
| ·晶体结构分析(XRD) | 第37-38页 |
| ·成分分析(EDS) | 第38-39页 |
| ·形貌分析(SEM、TEM和AFM) | 第39-42页 |
| ·ZnO量子点的光学性能 | 第42-44页 |
| ·室温光致发光光谱(PL)分析 | 第42-43页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 ZnO量子点的可控生长 | 第45-56页 |
| ·生长时间对ZnO量子点生长的控制 | 第45-47页 |
| ·锌源流量对ZnO量子点生长的控制 | 第47-49页 |
| ·不同氧源及氧源流量对ZnO量子点直径和密度的影响 | 第49-53页 |
| ·不同衬底对ZnO量子点形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 ZnMgO量子点的生长和性能研究 | 第56-60页 |
| ·ZnMgO量子点的晶体结构性能 | 第56-57页 |
| ·ZnMgO量子点的形貌 | 第57页 |
| ·ZnMgO量子点的成份分析 | 第57-58页 |
| ·ZnMgO量子点的光学性能 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第七章 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 硕士期间发表论文 | 第69页 |