摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-11页 |
第1章 绪论 | 第11-25页 |
·纳米材料研究现状 | 第11-19页 |
·纳米材料的性能 | 第11-12页 |
·纳米材料的制备方法 | 第12-19页 |
·纳米氢氧化镍的研究现状 | 第19-22页 |
·氢氧化镍的晶体结构 | 第19-20页 |
·氢氧化镍电极的反应机理 | 第20-21页 |
·纳米氢氧化镍的制备及在电极材料中的应用 | 第21-22页 |
·本论文的目的和意义 | 第22-23页 |
·本论文的研究内容和实施方案 | 第23-25页 |
第2章 实验方法与测试手段 | 第25-33页 |
·传统液相沉积法 | 第25-26页 |
·新型液相沉积法 | 第26-28页 |
·实验方法 | 第28页 |
·主要原料 | 第28页 |
·纳米结构Ni(OH)_2 粉体的制备 | 第28页 |
·纳米结构Ni(OH)_2 薄膜的制备 | 第28页 |
·表征手段 | 第28-33页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第28-29页 |
·扫描电镜(SEM)分析 | 第29页 |
·透射电镜(TEM)分析 | 第29页 |
·原子力显微镜(AFM)分析 | 第29-30页 |
·红外光谱(FT-IR)分析 | 第30页 |
·比表面(BET)分析 | 第30-31页 |
·热重—差热(TG-DTA)分析 | 第31页 |
·表面粗糙度测定仪分析 | 第31-33页 |
第3章 纳米结构氢氧化镍粉体的制备及表征 | 第33-55页 |
·引言 | 第33-34页 |
·实验 | 第34-39页 |
·实验原料 | 第34页 |
·主要仪器 | 第34页 |
·样品制备 | 第34-38页 |
·表征方法 | 第38-39页 |
·结果与讨论 | 第39-53页 |
·溶液pH 值对Ni(OH)_2 粉体的影响 | 第39-43页 |
·F、Ni(II)原子比对Ni(OH)_2 粉体的影响 | 第43-46页 |
·镍盐浓度对Ni(OH)_2 粉体的影响 | 第46-48页 |
·反应时间对Ni(OH)_2 粉体的影响 | 第48-51页 |
·形成机制的讨论 | 第51-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第4章 纳米结构氢氧化镍薄膜的制备及表征 | 第55-77页 |
·引言 | 第55页 |
·实验 | 第55-59页 |
·实验原料 | 第55页 |
·主要仪器 | 第55-56页 |
·样品制备 | 第56-59页 |
·表征方法 | 第59页 |
·结果与讨论 | 第59-74页 |
·溶液pH 值对Ni(OH)_2 薄膜的影响 | 第59-66页 |
·F、Ni(II)原子比对Ni(OH)_2 薄膜的影响 | 第66-68页 |
·反应时间对Ni(OH)_2 薄膜的影响 | 第68-72页 |
·氢氧化镍的热分解 | 第72-74页 |
·本章小结 | 第74-77页 |
结论与展望 | 第77-79页 |
参考文献 | 第79-85页 |
攻读学位期间取得的研究成果 | 第85-87页 |
致谢 | 第87页 |