| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·多孔硅的研究背景 | 第10页 |
| ·多孔硅的制备方法及表征方法 | 第10-13页 |
| ·多孔硅的应用及前景 | 第13-14页 |
| ·多孔硅体系发光的研究意义及有待解决的问题 | 第14-16页 |
| ·本论文的选题思路与主要研究工作 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-19页 |
| 第二章 多孔硅的电化学形成及发光机理 | 第19-39页 |
| ·多孔半导体材料孔的形成机理 | 第19-20页 |
| ·多孔半导体中的电子传输 | 第20-22页 |
| ·电化学方法制备多孔硅 | 第22-26页 |
| ·电化学形成多孔硅表面形貌的研究 | 第26-28页 |
| ·多孔硅光致发光机理研究 | 第28-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 金属掺杂多孔硅的形貌及发光特性研究 | 第39-45页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验及结果 | 第39-40页 |
| ·金属掺杂多孔硅发光机理分析 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第四章 制备方法对锌掺杂多孔硅蓝光发射强度及稳定性的影响 | 第45-51页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验部分 | 第45-46页 |
| ·结果与分析 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第五章 镁离子浓度对镁掺杂多孔硅发光特性的影响 | 第51-55页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·实验部分 | 第51页 |
| ·结果与分析 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第六章 锗/多孔硅和锗/氧化硅薄膜光致发光的比较研究 | 第55-61页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·样品的制备 | 第55-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 第七章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 附录：作者攻读硕士学位期间发表和以完成的论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |