| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-29页 |
| ·概述 | 第8-9页 |
| ·电致变色材料的分类 | 第9-15页 |
| ·无机电致变色材料 | 第9-13页 |
| ·有机电致变色材料 | 第13-14页 |
| ·其它一些电致变色材料 | 第14-15页 |
| ·电致变色膜的变色机理 | 第15-18页 |
| ·色心模型 | 第16页 |
| ·双注入模型(即Faughnan模型) | 第16-17页 |
| ·配位场模型 | 第17页 |
| ·小极化子吸收模型(即Schirmer模型) | 第17-18页 |
| ·自由载流子模型 | 第18页 |
| ·电致变色材料的应用 | 第18-20页 |
| ·电致变色显示器(ECD) | 第18-19页 |
| ·电致变色灵巧窗(smart window) | 第19页 |
| ·无眩反光镜(glare-free mirror) | 第19-20页 |
| ·电色存储器件 | 第20页 |
| ·基于电致变色材料的电色器件的组成结构 | 第20-24页 |
| ·结构设计 | 第20-22页 |
| ·器件的各层材料 | 第22-24页 |
| ·器件的性能评价 | 第24页 |
| ·研究现状及展望 | 第24-29页 |
| 第二章 反应性射频溅射制备电致变色氧化镍薄膜 | 第29-42页 |
| ·概述 | 第29-31页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第29页 |
| ·电化学沉积法 | 第29页 |
| ·物理气相沉积法 | 第29-30页 |
| ·化学气相沉积法 | 第30-31页 |
| ·脉冲激光法 | 第31页 |
| ·反应性射频溅射法的溅射机理 | 第31-42页 |
| ·反应性射频溅射法原理 | 第31-36页 |
| ·溅射成膜的特性 | 第36-39页 |
| ·溅射的特点和应用 | 第39-42页 |
| 第三章 电致变色氧化镍的性质及表征 | 第42-62页 |
| ·氧化镍薄膜的物理性质 | 第42-52页 |
| ·块体氧化镍材料的性质 | 第42-44页 |
| ·薄膜特性 | 第44-48页 |
| ·氧化镍薄膜的光学性质 | 第48-52页 |
| ·氧化镍电致变色膜的性能表征手段 | 第52-62页 |
| ·结构分析-X射线衍射技术 | 第52-53页 |
| ·表面化学成份分析-XPS测试 | 第53-54页 |
| ·表面形貌分析-扫描电子显微镜(SEM) | 第54-55页 |
| ·四探针测试电阻率 | 第55页 |
| ·电化学特性测试-循环伏安法(CV) | 第55-62页 |
| 第四章 溅射制备电致变色氧化镍膜及膜的表征 | 第62-76页 |
| ·NiOx薄膜的制备 | 第62-63页 |
| ·反应性射频溅射的实验设备 | 第62页 |
| ·实验所用的材料 | 第62-63页 |
| ·样品的表征及结果讨论 | 第63-76页 |
| ·溅射氧分压与溅射压强对NiOx膜的影响 | 第63-66页 |
| ·热处理温度对NiOx膜的影响 | 第66-72页 |
| ·变色过程对NiOx膜的影响 | 第72-76页 |
| 第五章 结论 | 第76-78页 |
| 一.溅射氧分压与溅射压强对NiOx膜质量的影响 | 第76页 |
| 二.薄膜的热处理对NiOx膜质量的影响 | 第76-77页 |
| 三.电化学过程对NiOx膜质量的影响 | 第77页 |
| 四.NiOx膜的变色机理的理解 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |