VO2薄膜的原位生长及其光学性能的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
1 概论 | 第8-19页 |
·引言 | 第8页 |
·二氧化钒的晶体结构 | 第8-10页 |
·二氧化钒薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
·二氧化钒薄膜的典型特性 | 第12-15页 |
·二氧化钒的应用 | 第15-18页 |
·本文主要内容 | 第18页 |
·本章小结 | 第18-19页 |
2 原位磁控溅射生长二氧化钒薄膜 | 第19-27页 |
·磁控溅射简介 | 第19-22页 |
·实验流程 | 第22-26页 |
·本章小结 | 第26-27页 |
3 二氧钒薄膜的结构表征 | 第27-37页 |
·薄膜结构分析方法简介 | 第27-28页 |
·实验结果 | 第28-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
4 二氧化钒薄膜的光学性能测试 | 第37-40页 |
·测试薄膜光学特性的实验装置 | 第37页 |
·光学性能的测试结果及分析 | 第37-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
5 基于二氧化钒薄膜的MTFET器件的设计 | 第40-56页 |
·设计思路 | 第40-41页 |
·器件设计中所需的微电子工艺简介 | 第41-46页 |
·器件设计图及工艺流程 | 第46-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
6 总结 | 第56-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第63页 |