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Sm-Fe超磁致伸缩薄膜的应力与磁性能研究

第一章 绪论第1-22页
   ·引言第7页
   ·稀土超磁致伸缩薄膜材料第7-8页
   ·超磁致伸缩薄膜的制备方法第8-10页
   ·薄膜的应力第10-15页
     ·薄膜的应力及研究现状第10-11页
     ·薄膜应力产生机制研究第11-12页
     ·薄膜应力释放机制第12-13页
     ·薄膜应力控制技术第13-14页
     ·薄膜应力测量技术第14-15页
   ·磁性薄膜的磁性能第15-19页
     ·磁性薄膜的磁致伸缩性能第15-17页
       ·磁致伸缩产生机理及唯象理论第15-16页
       ·稀土超磁致伸缩薄膜的磁致伸缩第16-17页
     ·铁磁体的磁滞回线理论第17-19页
       ·铁磁体的磁化曲线及磁畴模型第17-18页
       ·铁磁体的磁滞曲线第18-19页
   ·超磁致伸缩薄膜的研究重点及解决途径第19-21页
   ·本文的主要工作第21-22页
第二章 实验部分第22-35页
   ·薄膜的制备第22-25页
     ·基片的选择与清洗第22-23页
     ·离子束溅射镀膜第23-25页
   ·薄膜的厚度与沉积速率第25页
   ·薄膜的真空热处理第25页
   ·薄膜的表面观测与成分、结构分析第25-26页
   ·基片与薄膜弹性模量的测量第26-28页
     ·基片弹性模量Es的测量第26-27页
     ·薄膜弹性模量Ef的测量第27-28页
   ·薄膜应力的测量第28-29页
   ·磁性薄膜的软磁性能测试第29页
   ·薄膜磁致伸缩的测量第29-35页
     ·仪器的标定第29-32页
     ·磁性薄膜λ的悬臂梁-电容法测定第32-35页
       ·悬臂梁最大挠度测定值的修正第32-33页
       ·薄膜磁致伸缩系数的计算第33页
       ·薄膜磁致伸缩系数与磁场强度曲线的测定第33-35页
第三章 结果与讨论第35-73页
   ·基片弹性模量E_S的测量结果与分析第35-39页
     ·锡青铜基片(QSn)第35-37页
       ·锡青铜基片E_s的悬臂梁-加载法测量结果第35页
       ·锡青铜基片E_s的纳米压痕仪测量结果第35-37页
     ·单晶硅基片(Si)第37-39页
       ·单晶硅基片E_s的悬臂梁-加载法测量结果第37页
       ·单晶硅基片E_s的纳米压痕仪测量结果第37-39页
   ·薄膜弹性模量的测量结果与分析第39-46页
     ·Sm-Fe 薄膜Ef的纳米压痕仪测量结果第39-44页
     ·TbDy-Fe 薄膜Ef的纳米压痕仪测量结果第44-46页
   ·Sm-Fe 薄膜的厚度和沉积速率第46-49页
     ·质量膜厚与形状膜厚的对比第46页
     ·溅射方位对薄膜厚度和沉积速率的影响第46-48页
     ·溅射时间对薄膜厚度和沉积速率的影响第48-49页
   ·Sm-Fe 薄膜的表面形貌、成分与结构第49-52页
     ·不同衬底Sm-Fe 薄膜样品的表面形貌第49-50页
     ·Sm-Fe 薄膜样品的成分第50-51页
     ·Sm-Fe 薄膜样品的结构第51-52页
   ·Sm-Fe 薄膜的应力研究第52-58页
     ·不同溅射角度下的Sm-Fe 薄膜的应力第52页
     ·镀膜前基片的弯曲半径大小对薄膜应力的影响第52-54页
     ·溅射时间对Sm-Fe 薄膜应力的影响第54-55页
     ·热处理对Sm-Fe 薄膜应力的影响第55-58页
   ·Sm-Fe 薄膜的软磁性能研究第58-65页
     ·Sm-Fe 薄膜/锡青铜衬底的软磁性能研究第58-62页
     ·Sm-Fe 薄膜/单晶硅衬底的软磁性能研究第62-65页
   ·Sm-Fe 薄膜的磁致伸缩性能研究第65-73页
     ·不同衬底Sm-Fe 薄膜的磁致伸缩性能第65-71页
       ·Sm-Fe 薄膜/QSn 衬底(0.05mm 厚)的磁伸性能第65-67页
       ·Sm-Fe 薄膜/QSn 衬底(0.035mm 厚)的磁伸性能第67-69页
       ·Sm-Fe 薄膜/QBe 衬底(0.1mm 厚)的磁伸性能第69页
       ·Sm-Fe 薄膜/Glass 衬底(0.17mm 厚)的磁伸性能第69-71页
     ·热处理对Sm-Fe 薄膜磁致伸缩性能的影响第71-73页
结论第73-75页
参考文献第75-80页
致谢第80-81页
个人简历第81页
在学期间参加的科研项目第81页
在学期间发表的学术论文第81页

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