| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-25页 |
| ·半导体激光器的发展历史 | 第8-10页 |
| ·半导体激光器的应用 | 第10-14页 |
| ·808nm 高功率半导体激光器工艺流程以及关键工艺 | 第14-22页 |
| ·本章小结 | 第22页 |
| ·本论文的主要工作 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-25页 |
| 第2章 光学膜理论基础 | 第25-41页 |
| ·平面电磁波在单一界面上的反射 | 第25页 |
| ·单层介质薄膜的反射率 | 第25-28页 |
| ·多层介质薄膜的反射率 | 第28-30页 |
| ·半导体激光器光学膜的设计基础 | 第30-33页 |
| ·光学膜光学特性的编程计算 | 第33-34页 |
| ·多层介质高反射膜光学特性 | 第34-36页 |
| ·介质多层膜的弱吸收计算 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第3章 808nm 高功率激光器腔面膜制备 | 第41-56页 |
| ·腔面膜国内外研究情况 | 第41-42页 |
| ·腔面膜的作用 | 第42页 |
| ·源材料的选取 | 第42-45页 |
| ·外延结构和器件结构 | 第45-46页 |
| ·腔面膜反射率理论依据 | 第46-47页 |
| ·高反膜和增透膜的制备及表征 | 第47-50页 |
| ·器件灾变形光学损伤以及损伤阈值的测量 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第4章 高损伤阈值半导体激光器的设计 | 第56-67页 |
| ·灾变性光学损伤以及几种克服方法 | 第56-57页 |
| ·大光腔外延结构设计 | 第57页 |
| ·808nm 半导体激光器腔面膜优化设计 | 第57-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 第5章 准连续、连续1064nm 半导体激光列阵模块的研制 | 第67-74页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·准连续1050nm 激光列阵模块 | 第67-70页 |
| ·连续1064nm 激光列阵模块 | 第70-71页 |
| ·结论 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |
| 第6章 高功率垂直腔面发射激光器出光窗口--增透膜研究 | 第74-82页 |
| ·垂直腔面发射激光器的简史与研究概况 | 第74-75页 |
| ·高功率垂直腔面发射激光器结构 | 第75-76页 |
| ·增透膜对出光功率的作用 | 第76-77页 |
| ·HfO_2 增透膜制备及表征 | 第77-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-82页 |
| 结论 | 第82-84页 |
| 附录 | 第84-89页 |
| ·附录1 | 第84-85页 |
| ·附录2 | 第85页 |
| ·附录3 | 第85-87页 |
| ·附录4 | 第87页 |
| ·附录5 | 第87-89页 |
| 博士期间发表的文章及成果 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
