| 第一章 绪论 | 第1-14页 |
| 引言 | 第9页 |
| ·磁学基础理论 | 第9-11页 |
| ·NdFeB磁性材料的发展及应用 | 第11页 |
| ·NdFeB磁性薄膜的发展 | 第11-13页 |
| ·本课题的创新、研究内容、目的及意义 | 第13-14页 |
| 第二章 实验制备方法、设备及材料 | 第14-23页 |
| ·实验原理与方法 | 第14-19页 |
| ·气体放电 | 第14-15页 |
| ·溅射原理 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射 | 第16-19页 |
| ·溅射实验设备及制备工序 | 第19-21页 |
| ·多功能磁控溅射设备简介 | 第19-20页 |
| ·溅射制备工序 | 第20-21页 |
| ·定向沉积技术 | 第21-22页 |
| ·定向沉积技术定义 | 第21页 |
| ·定向沉积技术的具体步骤及设备操作 | 第21-22页 |
| ·实验材料 | 第22-23页 |
| 第三章 NdFeB/X/Ti薄膜的表征 | 第23-27页 |
| 引言 | 第23页 |
| ·薄膜的厚度 | 第23页 |
| ·薄膜的成分及形貌 | 第23-24页 |
| ·表面形态 | 第24-25页 |
| ·磁性测量 | 第25-27页 |
| 第四章 溅射工艺、定向沉积技术对薄膜形态的影响 | 第27-42页 |
| ·溅射工艺对薄膜厚度的影响 | 第27-31页 |
| ·溅射工艺对NdFeB薄膜厚度的影响 | 第27-29页 |
| ·溅射工艺对Ti薄膜厚度的影响 | 第29-31页 |
| ·溅射工艺参数对薄膜表面形态的影响 | 第31-33页 |
| ·溅射功率 | 第31-32页 |
| ·预热 | 第32-33页 |
| ·定向沉积技术对薄膜表面形态的影响 | 第33-41页 |
| ·定向沉积技术对薄膜的表面形态的影响 | 第33-34页 |
| ·从传热学角度分析定向沉积法对薄膜形态的影响 | 第34-41页 |
| 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 定向沉积法制备NdFeB/Ti薄膜及对其性能的影响 | 第42-48页 |
| ·定向沉积法制备NdFeB/Ti薄膜的步骤 | 第42页 |
| ·定向沉积法制备的NdFeB/Ti薄膜的表面形态 | 第42页 |
| ·定向沉积法制备的NdFeB/Ti薄膜的磁性能 | 第42-47页 |
| ·定向沉积法制备的NdFeB/Ti薄膜的磁畴 | 第42-44页 |
| ·定向沉积法制备的NdFeB/Ti薄膜的磁各向异性 | 第44-47页 |
| 本章小结 | 第47-48页 |
| 第六章 后热处理工艺对定向沉积NdFeB/Ti薄膜的性能的影响 | 第48-58页 |
| ·定向沉积NdFeB/Ti多层膜进行后热处理的步骤 | 第48页 |
| ·后热处理温度对定向沉积NdFeB/Ti多层薄膜的表面形态的影响 | 第48-49页 |
| ·后热处理温度对定向沉积NdFeB/Ti薄膜的磁性能的影响 | 第49-56页 |
| 本章小结 | 第56-58页 |
| 第七章 定向沉积技术的特点 | 第58-63页 |
| ·薄膜表面形态 | 第58-60页 |
| ·薄膜磁性能 | 第60-62页 |
| 本章小结 | 第62-63页 |
| 第八章 定向沉积法、循环溅射制备NdFeB/X/Ti多层膜及对其性能的影响 | 第63-66页 |
| 引言 | 第63页 |
| ·定向沉积、循环溅射制备(NdFeB/Co)_6Ti多层薄膜的步骤 | 第63-64页 |
| ·(NdFeB/Co)_6/Ti多层薄膜的表面形态 | 第64-65页 |
| ·(NdFeB/Co)_6/Ti多层薄膜的磁性能 | 第65页 |
| 本章小结 | 第65-66页 |
| 第九章 结论 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 攻读硕士研究生期间发表的论文 | 第70页 |
