| 第1章 绪论 | 第1-15页 |
| ·研究背景 | 第7-14页 |
| ·信息时代的需求 | 第7页 |
| ·ZnO薄膜的基本物性 | 第7-11页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·研究目的 | 第14页 |
| ·本文的研究内容 | 第14-15页 |
| 第2章 超声雾化热解装置的设计及原理 | 第15-27页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·超声雾化热解技术的简介 | 第15-17页 |
| ·超声雾化热解技术的发展史 | 第15-16页 |
| ·超声雾化热解技术沉积ZnO薄膜的研究现状 | 第16-17页 |
| ·超声雾化热解技术机理 | 第17-22页 |
| ·超声雾化机理 | 第17-18页 |
| ·热解沉积机理 | 第18-20页 |
| ·超声雾化热解沉积系统 | 第20-21页 |
| ·雾化热解沉积制备ZnO薄膜的反应机制 | 第21-22页 |
| ·实验操作步骤 | 第22-23页 |
| ·衬底的清洗 | 第22-23页 |
| ·样品的制备 | 第23页 |
| ·表征手段 | 第23-26页 |
| ·膜厚的测定 | 第23-24页 |
| ·成分分析测试 | 第24页 |
| ·结构和形貌测试 | 第24-25页 |
| ·紫外-可见分光光度计测试(UVPC) | 第25页 |
| ·光致荧光测试(PL) | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 工艺参数对ZnO薄膜结构和形貌的影响 | 第27-49页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·前驱物溶液浓度对ZnO薄膜的结构和沉积速率的影响 | 第27-28页 |
| ·载气流量对ZnO薄膜的结构和沉积速率的影响 | 第28-34页 |
| ·ZnO的结晶状况 | 第28-31页 |
| ·载气流量对ZnO薄膜沉积速率的影响 | 第31-32页 |
| ·ZnO薄膜表面形貌分析 | 第32-34页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的结构和沉积速率的影响 | 第34-37页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的结构的影响 | 第34-36页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜沉积速率的影响 | 第36-37页 |
| ·沉积时间对ZnO薄膜结构的影响 | 第37-39页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜的结构的影响 | 第39-42页 |
| ·稀土掺杂对ZnO薄膜的结构的影响 | 第42-48页 |
| ·样品的制备 | 第42-43页 |
| ·Eu~(3+)掺杂浓度对ZnO薄膜结构的影响 | 第43页 |
| ·沉积温度对ZnO:Eu~(3+)薄膜的结构的影响 | 第43-45页 |
| ·ZnO:Eu薄膜的表面形貌 | 第45-47页 |
| ·ZnO:Eu薄膜的RBS分析 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 ZnO薄膜光学吸收和发光特性的研究 | 第49-63页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·ZnO薄膜的紫外透射光谱 | 第49-53页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的紫外透射光谱的吸收截止边带的影响 | 第50-51页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜的紫外透射光谱的吸收截止边带的影响 | 第51-52页 |
| ·掺杂浓度对ZnO:Eu薄膜紫外透射光谱吸收截止边带的影响 | 第52-53页 |
| ·ZnO薄膜的发光光谱 | 第53-61页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜发光特性的影响 | 第54-56页 |
| ·掺杂浓度对ZnO薄膜发光特性的影响 | 第56-57页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜发光特性的影响 | 第57-59页 |
| ·不同还原气氛下退火对ZnO薄膜本征和缺陷PL谱的影响 | 第59-60页 |
| ·不同退火气氛下ZnO薄膜的发光特性比较 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
