| 第一章 文献综述 | 第1-29页 |
| ·酚类废水的来源和危害 | 第14-15页 |
| ·酚类化合物在环境中的行为 | 第15-16页 |
| ·酚类废水的处理方法 | 第16-17页 |
| ·光催化机理 | 第17-18页 |
| ·多相光催化剂的研究现状 | 第18-22页 |
| ·半导体多相光催化剂的简介 | 第18-21页 |
| ·钙钛矿型光催化剂 | 第21页 |
| ·层状纳米光催化复合材料 | 第21-22页 |
| ·光催化氧化的应用 | 第22-23页 |
| ·在废水处理方面的应用 | 第22页 |
| ·在大气净化中的应用 | 第22页 |
| ·光催化杀菌 | 第22-23页 |
| ·还原金属离子 | 第23页 |
| ·小结 | 第23-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-34页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第29-30页 |
| ·催化剂的制备 | 第30-31页 |
| ·Bi_2O_3-MO催化剂的制备(M指V、Y、La、Ce、Al等元素) | 第30页 |
| ·Bi_2O_3-V_2O_5催化剂的制备 | 第30页 |
| ·Bi_2O_3-Y_2O_3催化剂的制备 | 第30-31页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第31-32页 |
| ·废水降解率的计算方法 | 第32页 |
| ·催化剂的表征 | 第32-34页 |
| ·紫外光谱扫描(DRS) | 第32-33页 |
| ·热分析(TG-DSC) | 第33页 |
| ·多晶X射线衍射实验(XRD) | 第33页 |
| ·傅立叶变换红外光谱扫描(FT-IR)实验 | 第33页 |
| ·正电子湮没谱的测定(PLS) | 第33-34页 |
| 第三章 光催化降解2,4-二氯苯酚废水工艺条件的研究 | 第34-44页 |
| ·各种催化剂光催化降解废水的催化性能比较 | 第34-35页 |
| ·反应时间的影响 | 第35-36页 |
| ·催化剂用量的影响 | 第36-37页 |
| ·助氧化剂H_2O_2的加入对降解率的影响 | 第37-38页 |
| ·pH值对降解率的影响 | 第38-40页 |
| ·初始浓度对反应速率的影响 | 第40-41页 |
| ·废水降解机理的初步研究 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |
| 第四章 Bi_2O_3-V_2O_5催化剂体系的研究 | 第44-65页 |
| ·制备方法对催化剂性能的影响 | 第44-45页 |
| ·Bi_2O_3／V_2O_5配比对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂性能的影响 | 第45-52页 |
| ·Bi_2O_3／V_2O_5配比对催化剂活性的影响 | 第45-47页 |
| ·Bi_2O_3／V_2O_5配比对光催化剂紫外扫描曲线(DRS)的影响 | 第47-49页 |
| ·Bi_2O_3／V_2O_5配比对光催化剂晶相结构(XRD)的影响 | 第49-50页 |
| ·V_2O_5对光催化剂红外光谱(FT-IR)的影响 | 第50-51页 |
| ·V_2O_5对光催化剂正电子寿命谱(PLS)的影响 | 第51-52页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂性能的影响 | 第52-59页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-V_2O_5催化剂活性的影响 | 第53-54页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂DRS的影响 | 第54-56页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂XRD的影响 | 第56-57页 |
| ·TG-DSC考察焙烧温度对Bi_2O_3-V_2O_5催化剂性能的影响 | 第57-58页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂FF-IR的影响 | 第58页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂PLS的影响 | 第58-59页 |
| ·焙烧时间对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂性能的影响 | 第59-63页 |
| ·焙烧时间对Bi_2O_3-V_2O_5催化剂降解活性的影响 | 第59-60页 |
| ·不同焙烧时间对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂DRS的影响 | 第60-63页 |
| ·焙烧时间对Bi_2O_3-V_2O_5光催化剂XRD的影响 | 第63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第五章 Bi_2O_3-Y_2O_3催化剂体系的研究 | 第65-76页 |
| ·Bi_2O_3/Y_2O_3配比对Bi_2O_3-Y_2O_3光催化剂性能的影响 | 第65-70页 |
| ·Bi_2O_3／Y_2O_3配比对催化剂降解活性的影响 | 第65-66页 |
| ·Bi_2O_3/Y_2O_3配比对光催化剂DRS的影响 | 第66-68页 |
| ·Bi_2O_3/Y_2O_3配比对光催化剂XRD的影响 | 第68-69页 |
| ·Bi_2O_3/Y_2O_3配比对光催化剂TDA曲线的影响 | 第69-70页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-Y_2O_3光催化剂性能的影响 | 第70-75页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-Y_2O_3催化剂降解活性的影响 | 第70-71页 |
| ·不同焙烧温度对Bi_2O_3-Y_2O_3光催化剂DRS的影响 | 第71-73页 |
| ·焙烧温度对Bi_2O_3-Y_2O_3(Bi／Y=1:0.5)光催化剂XRD的影响 | 第73-74页 |
| ·TG-DTA考察焙烧温度对Bi_2O_3-Y_2O_3催化剂的影响 | 第74-75页 |
| ·小结 | 第75-76页 |
| 第六章 结论与展望 | 第76-78页 |
| ·结论 | 第76-77页 |
| ·展望 | 第77-78页 |
| 附录 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
