| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-21页 |
| 1．1 国内外β-FeSi_2研究概况 | 第7-13页 |
| 1．2 化学气相沉积 | 第13-15页 |
| 1．2．1 化学气相沉积的基本原理 | 第13-14页 |
| 1．2．2 CVD法制备薄膜或晶体的基本过程 | 第14页 |
| 1．2．3 几种最常见的化学气相沉积反应类型 | 第14-15页 |
| 1．2．4 化学气相沉积的优点 | 第15页 |
| 1．3 超高压技术 | 第15-21页 |
| 1．3．1 活塞—圆筒式装置 | 第16页 |
| 1．3．2 布里奇曼压砧 | 第16页 |
| 1．3．3 年轮装置 | 第16-17页 |
| 1．3．4 多面体压头高压装置 | 第17-18页 |
| 1．3．5 金刚石压砧高压装置 | 第18-19页 |
| 1．3．6 超高压系统内的压力标定 | 第19-21页 |
| 第2章 实验方法 | 第21-28页 |
| 2．1 化学配比为1：2的FeSi_2原材料的制备 | 第21-22页 |
| 2．2 双温区梯度炉的制作 | 第22-24页 |
| 2．3 样品真空封装 | 第24-26页 |
| 2．3．1 封装碘 | 第24-25页 |
| 2．3．2 封装安瓿 | 第25页 |
| 2．3．3 改进安瓿封装方法 | 第25-26页 |
| 2．4 气相沉积 | 第26-27页 |
| 2．5 样品测试手段 | 第27页 |
| 2．6 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 实验结果及分析 | 第28-49页 |
| 3．1 晶体形貌观察及分析 | 第28-39页 |
| 3．2 重力对晶体生长的影响 | 第39-44页 |
| 3．3 β-FeSi_2电阻率随温度变化关系 | 第44页 |
| 3．4 高压实验的原位X-射线衍射 | 第44-47页 |
| 3．5 本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-57页 |
| 致谢 | 第57页 |