金刚石薄膜在Mo基体上的形核生长研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-25页 |
| ·Mo上沉积金刚石的研究 | 第9页 |
| ·金刚石薄膜研究现状 | 第9-16页 |
| ·研究历史 | 第9-10页 |
| ·低压化学气相沉积金刚石膜的方法 | 第10-12页 |
| ·金刚石薄膜研究的主要进展 | 第12-13页 |
| ·金刚石薄膜的发展前景 | 第13-14页 |
| ·当前产业化中要解决的重要技术 | 第14-16页 |
| ·金刚石薄膜的概述 | 第16-19页 |
| ·金刚石薄膜的结构 | 第16-17页 |
| ·金刚石薄膜的性质及应用 | 第17-19页 |
| ·影响形核的因素 | 第19-22页 |
| ·基体 | 第20页 |
| ·无定形碳过渡层 | 第20页 |
| ·基体预处理 | 第20-21页 |
| ·沉积温度 | 第21-22页 |
| ·沉积气压 | 第22页 |
| ·反应气源 | 第22页 |
| ·增强形核的方法 | 第22-24页 |
| ·研究的目的和意义 | 第24-25页 |
| 第二章 实验方法及过程 | 第25-32页 |
| ·薄膜设备及原理 | 第25-28页 |
| ·实验装置 | 第25-26页 |
| ·实验原理 | 第26-28页 |
| ·薄膜样品制备 | 第28-29页 |
| ·实验材料 | 第28页 |
| ·基体预处理 | 第28页 |
| ·沉积工艺 | 第28-29页 |
| ·薄膜的性能表征 | 第29-32页 |
| ·X射线衍射分析 | 第29-30页 |
| ·表面形貌分析 | 第30-31页 |
| ·薄膜形核密度和生长速率的表征 | 第31-32页 |
| 第三章 实验结果与分析 | 第32-59页 |
| ·碳源浓度对薄膜形核生长的影响 | 第32-41页 |
| ·沉积条件 | 第32-33页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第33-35页 |
| ·薄膜表面形核生长 | 第35-37页 |
| ·薄膜织构分析 | 第37-40页 |
| ·机理分析 | 第40-41页 |
| ·沉积气压对薄膜形核生长的影响 | 第41-48页 |
| ·沉积条件 | 第41-42页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第42-44页 |
| ·薄膜表面形核生长 | 第44-45页 |
| ·薄膜织构分析 | 第45-47页 |
| ·机理分析 | 第47-48页 |
| ·沉积过程中改变碳源浓度对薄膜形核生长影响 | 第48-57页 |
| ·沉积条件 | 第48-52页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第52-53页 |
| ·薄膜表面形核生长 | 第53-55页 |
| ·薄膜织构分析 | 第55-56页 |
| ·机理分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 CVD金刚石形核生长的热力学研究 | 第59-67页 |
| ·热力学计算 | 第59-63页 |
| ·方程组的设定 | 第59-61页 |
| ·K值的确定 | 第61-63页 |
| ·相成分分析 | 第63-65页 |
| ·温度对相成分的影响 | 第63-64页 |
| ·C/H值对相成分的影响 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 在学期间发表的学术论文 | 第76页 |
