微构造硅表面金属薄膜的光吸收性质研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·微构造硅基底简介 | 第7-9页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·表面微构造硅 | 第8-9页 |
| ·金属微结构影响光学性质 | 第9-10页 |
| ·本论文主要内容及安排 | 第10-11页 |
| 第二章 硅表面微结构的获得 | 第11-32页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·实验装置 | 第11-13页 |
| ·硅表面飞秒激光微构造 | 第13-15页 |
| ·实验样品准备 | 第13页 |
| ·实验光路调节 | 第13页 |
| ·实验步骤 | 第13-15页 |
| ·激光光斑大小确定 | 第15页 |
| ·硅表面微结构的控制 | 第15-22页 |
| ·激光通量的影响 | 第16-18页 |
| ·激光偏振特性的影响 | 第18-19页 |
| ·不同背景气体的影响 | 第19-21页 |
| ·其他影响因素 | 第21-22页 |
| ·样品性质 | 第21页 |
| ·激光脉宽的影响 | 第21-22页 |
| ·激光重复频率 | 第22页 |
| ·激光入射方向 | 第22页 |
| ·等离子发射光谱 | 第22-31页 |
| ·实验装置 | 第23-24页 |
| ·实验结果 | 第24-29页 |
| ·讨论与分析 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 表面微构造硅的光吸收性质 | 第32-46页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·表面微构造硅的光吸收性质 | 第33-40页 |
| ·实验装置 | 第33-35页 |
| ·光吸收测量结果 | 第35-40页 |
| ·近紫外至近红外波段的光吸收 | 第36-37页 |
| ·红外波段的光吸收 | 第37-40页 |
| ·微结构尺度对光学性质的影响 | 第40页 |
| ·刻蚀过程中环境气体的影响 | 第40页 |
| ·吸收机理的讨论 | 第40-43页 |
| ·潜在应用 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 微构造硅表面金属薄膜的光吸收性质 | 第46-57页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·微构造硅表面金属薄膜的制备 | 第46-47页 |
| ·微构造硅表面金属薄膜的光吸收性质 | 第47-54页 |
| ·光吸收测量结果 | 第47-53页 |
| ·金属薄膜微结构尺度的影响 | 第53页 |
| ·金属薄膜膜厚的影响 | 第53-54页 |
| ·其他因素的影响 | 第54页 |
| ·吸收机理的讨论 | 第54-55页 |
| ·潜在应用 | 第55-56页 |
| ·进一步工作 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 工作总结 | 第63-64页 |
| 发表论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
