基于HPPUMS技术在不锈钢衬底上制备CrN_x薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| ·常见的几种制备CrN_X薄膜的方法 | 第9-17页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第9-11页 |
| ·真空电弧离子镀 | 第11-13页 |
| ·活性反应离子镀 | 第13-15页 |
| ·磁控溅射 | 第15-17页 |
| ·高功率脉冲非平衡磁控溅射(HPPUMS) | 第17-21页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术的发展 | 第17-18页 |
| ·实现高金属离化率的几种方法 | 第18-20页 |
| ·HPPUMS的放电特性 | 第20页 |
| ·HPPUMS放电对薄膜性能的影响 | 第20-21页 |
| 2 CrN_x薄膜的生长及应用 | 第21-25页 |
| ·薄膜生长理论 | 第21-22页 |
| ·临界核的形成 | 第21页 |
| ·连续薄膜的形成 | 第21页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第21-22页 |
| ·CrN_X薄膜的应用及研究进展 | 第22-25页 |
| ·CrN_X薄膜的性质 | 第22页 |
| ·CrN_X薄膜的应用 | 第22-23页 |
| ·CrN_X薄膜的研究进展 | 第23-25页 |
| 3 CrN_X薄膜的制备装置和表征方法 | 第25-33页 |
| ·CrN_X薄膜的制备装置 | 第25-27页 |
| ·CrN_X薄膜的表征方法 | 第27-33页 |
| ·台阶仪 | 第27-29页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| ·摩擦系数 | 第30-31页 |
| ·努氏硬度 | 第31-32页 |
| ·电化学腐蚀 | 第32-33页 |
| 4 不锈钢基底上制备CrN_X薄膜及其性能研究 | 第33-42页 |
| ·CrN_X薄膜的制备工艺 | 第33页 |
| ·基底的化学清洗 | 第33页 |
| ·基底的辉光清洗 | 第33页 |
| ·不同N_2流量下CrN_X薄膜的性能分析 | 第33-40页 |
| ·CrN_X薄膜的沉积速率 | 第34-36页 |
| ·CrN_X薄膜的结构分析 | 第36-37页 |
| ·CrN_X薄膜的摩擦系数 | 第37-38页 |
| ·CrN_X薄膜的硬度分析 | 第38-39页 |
| ·CrN_X薄膜的腐蚀分析 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 结论 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-50页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
