摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-11页 |
第一章 绪论 | 第11-22页 |
·引言 | 第11页 |
·铝电解电容器用介质层 | 第11-13页 |
·高比容铝电极箔制备技术研究进展 | 第13-19页 |
·水解沉积法 | 第14-15页 |
·溶胶—凝胶法 | 第15-16页 |
·电化学沉积法 | 第16-17页 |
·热处理增容技术 | 第17页 |
·高比容阳极箔增容机理 | 第17-19页 |
·本论文选题及结构体系 | 第19-22页 |
·本论文的选题 | 第19-20页 |
·本论文的研究内容 | 第20-22页 |
第二章 高介电常数Al_2O_3-Nb_2O_5复合膜研究 | 第22-36页 |
·引言 | 第22页 |
·工艺路线分析 | 第22-23页 |
·实验药品和仪器设备 | 第23-24页 |
·实验药品 | 第23页 |
·主要仪器设备 | 第23-24页 |
·高介电常数Al_2O_3-Nb_2O_5复合氧化膜的形成 | 第24-26页 |
·Nb 络合物的络合沉积过程 | 第24页 |
·表面覆盖NbO_5膜层的铝电极箔的阳极氧化过程 | 第24-26页 |
·工艺参数的选择与优化 | 第26-30页 |
·Nb 处理液浓度的影响 | 第27页 |
·处理液温度对比容增长率的影响 | 第27-28页 |
·含Nb 溶液处理时间的影响 | 第28-29页 |
·热处理温度的影响 | 第29-30页 |
·小结 | 第30页 |
·Al_2O_3-Nb_2O_5复合膜的微观分析与性能表征 | 第30-35页 |
·扫描电镜(SEM)分析 | 第30-32页 |
·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第32-33页 |
·X-射线衍射(XRD)分析 | 第33-34页 |
·Al_2O_3-Nb_2O_5复合膜C-V 测试 | 第34-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第三章 高介电常数Al_2O_3-BST 复合膜研究 | 第36-49页 |
·引言 | 第36-37页 |
·工艺路线分析 | 第37页 |
·实验药品和仪器设备 | 第37-39页 |
·实验药品 | 第37-38页 |
·主要仪器设备 | 第38-39页 |
·高介电常数Al_2O_3-BST 复合氧化膜的形成 | 第39-40页 |
·BST 溶胶的配制 | 第39页 |
·表面覆有BST 膜层的铝电极箔阳极氧化过程 | 第39-40页 |
·工艺参数的选择及优化 | 第40-44页 |
·钡锶比的影响 | 第41页 |
·BST 溶胶浓度的影响 | 第41-42页 |
·热处理温度的影响 | 第42-43页 |
·涂覆次数的影响 | 第43页 |
·小结 | 第43-44页 |
·Al_2O_3-BST 复合氧化膜的微观分析与性能表征 | 第44-48页 |
·X-射线光电子衍射能谱(XPS)分析 | 第44-45页 |
·扫描电镜(SEM)分析 | 第45-46页 |
·X-射线衍射(XRD)分析 | 第46-47页 |
·Al_2O_3-BST 复合氧化膜C-V 曲线 | 第47-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第四章 高比容Al_2O_3-BT 复合氧化膜制备研究 | 第49-60页 |
·引言 | 第49页 |
·工艺路线分析 | 第49-50页 |
·实验药品和仪器设备 | 第50-51页 |
·实验药品 | 第50页 |
·主要仪器设备 | 第50-51页 |
·高介电常数Al_2O_3-BT 复合氧化膜的形成 | 第51-52页 |
·BT 溶胶的配制 | 第51页 |
·表面覆有BT 膜层的铝电极箔阳极氧化过程 | 第51-52页 |
·工艺参数的选择及优化 | 第52-55页 |
·BT 溶胶浓度的影响 | 第52-53页 |
·热处理温度的影响 | 第53-54页 |
·涂覆次数的影响 | 第54-55页 |
·小结 | 第55页 |
·Al_2O_3-BT 复合膜的微观分析与性能表征 | 第55-59页 |
·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第55-58页 |
·X-射线衍射(XRD)分析 | 第58页 |
·Al_2O_3-BT 复合膜C-V 曲线 | 第58-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
第五章 结论与展望 | 第60-62页 |
·本论文的主要结论 | 第60页 |
·本论文的创新之处 | 第60-61页 |
·前景展望 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-67页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第67-68页 |