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高比容铝基复合介质膜制备技术研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-11页
第一章 绪论第11-22页
   ·引言第11页
   ·铝电解电容器用介质层第11-13页
   ·高比容铝电极箔制备技术研究进展第13-19页
     ·水解沉积法第14-15页
     ·溶胶—凝胶法第15-16页
     ·电化学沉积法第16-17页
     ·热处理增容技术第17页
     ·高比容阳极箔增容机理第17-19页
   ·本论文选题及结构体系第19-22页
     ·本论文的选题第19-20页
     ·本论文的研究内容第20-22页
第二章 高介电常数Al_2O_3-Nb_2O_5复合膜研究第22-36页
   ·引言第22页
   ·工艺路线分析第22-23页
   ·实验药品和仪器设备第23-24页
     ·实验药品第23页
     ·主要仪器设备第23-24页
   ·高介电常数Al_2O_3-Nb_2O_5复合氧化膜的形成第24-26页
     ·Nb 络合物的络合沉积过程第24页
     ·表面覆盖NbO_5膜层的铝电极箔的阳极氧化过程第24-26页
   ·工艺参数的选择与优化第26-30页
     ·Nb 处理液浓度的影响第27页
     ·处理液温度对比容增长率的影响第27-28页
     ·含Nb 溶液处理时间的影响第28-29页
     ·热处理温度的影响第29-30页
     ·小结第30页
   ·Al_2O_3-Nb_2O_5复合膜的微观分析与性能表征第30-35页
     ·扫描电镜(SEM)分析第30-32页
     ·X-射线光电子能谱(XPS)分析第32-33页
     ·X-射线衍射(XRD)分析第33-34页
     ·Al_2O_3-Nb_2O_5复合膜C-V 测试第34-35页
   ·本章小结第35-36页
第三章 高介电常数Al_2O_3-BST 复合膜研究第36-49页
   ·引言第36-37页
   ·工艺路线分析第37页
   ·实验药品和仪器设备第37-39页
     ·实验药品第37-38页
     ·主要仪器设备第38-39页
   ·高介电常数Al_2O_3-BST 复合氧化膜的形成第39-40页
     ·BST 溶胶的配制第39页
     ·表面覆有BST 膜层的铝电极箔阳极氧化过程第39-40页
   ·工艺参数的选择及优化第40-44页
     ·钡锶比的影响第41页
     ·BST 溶胶浓度的影响第41-42页
     ·热处理温度的影响第42-43页
     ·涂覆次数的影响第43页
     ·小结第43-44页
   ·Al_2O_3-BST 复合氧化膜的微观分析与性能表征第44-48页
     ·X-射线光电子衍射能谱(XPS)分析第44-45页
     ·扫描电镜(SEM)分析第45-46页
     ·X-射线衍射(XRD)分析第46-47页
     ·Al_2O_3-BST 复合氧化膜C-V 曲线第47-48页
   ·本章小结第48-49页
第四章 高比容Al_2O_3-BT 复合氧化膜制备研究第49-60页
   ·引言第49页
   ·工艺路线分析第49-50页
   ·实验药品和仪器设备第50-51页
     ·实验药品第50页
     ·主要仪器设备第50-51页
   ·高介电常数Al_2O_3-BT 复合氧化膜的形成第51-52页
     ·BT 溶胶的配制第51页
     ·表面覆有BT 膜层的铝电极箔阳极氧化过程第51-52页
   ·工艺参数的选择及优化第52-55页
     ·BT 溶胶浓度的影响第52-53页
     ·热处理温度的影响第53-54页
     ·涂覆次数的影响第54-55页
     ·小结第55页
   ·Al_2O_3-BT 复合膜的微观分析与性能表征第55-59页
     ·X-射线光电子能谱(XPS)分析第55-58页
     ·X-射线衍射(XRD)分析第58页
     ·Al_2O_3-BT 复合膜C-V 曲线第58-59页
   ·本章小结第59-60页
第五章 结论与展望第60-62页
   ·本论文的主要结论第60页
   ·本论文的创新之处第60-61页
   ·前景展望第61-62页
致谢第62-63页
参考文献第63-67页
攻硕期间取得的研究成果第67-68页

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