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纳焦量级弱光触发GaAs光电导开关的猝灭模式研究

摘要第3-5页
abstract第5-6页
1 绪论第9-17页
    1.1 太赫兹波第9-12页
        1.1.1 THz波的应用价值第9-11页
        1.1.2 产生THz电磁波的方法第11-12页
    1.2 光电导天线产生THz波的发展状况第12-14页
        1.2.1 国外发展历程第12-13页
        1.2.2 国内发展历程第13-14页
    1.3 本文的主要工作和内容第14-17页
2 GaAs光电导开关的基本结构和工作模式第17-27页
    2.1 GaAs材料特性第17-19页
    2.2 光电导开关的基本结构第19-20页
    2.3 GaAs光导开关的三种工作模式第20-24页
        2.3.1 线性工作模式第20-21页
        2.3.2 雪崩倍增工作模式第21-23页
        2.3.3 雪崩倍增猝灭工作模式第23-24页
    2.4 光电导开关的太赫兹实现第24-25页
    2.5 本章小结第25-27页
3 用nJ量级飞秒激光触发GaAs光电导开关进入高倍增模式第27-37页
    3.1 砷化镓材料光吸收机制第27-29页
        3.1.1 本征吸收第27-28页
        3.1.2 砷化镓材料的补偿机制第28-29页
    3.2 光电阈值条件第29-30页
        3.2.1 吸收深度与波长的关系第29页
        3.2.2 光能阈值极限第29-30页
    3.3 实验系统搭建第30-34页
        3.3.1 GaAs光电导开关第30-31页
        3.3.2 用nJ量级飞秒激光触发GaAs光电导开关实验装置第31页
        3.3.3 nJ量级飞秒激光触发GaAs光电导开关实验电路第31-33页
        3.3.4 实验仪器介绍第33-34页
    3.4 激光脉冲能量对GaAs光电导开关输出特性的影响第34-36页
        3.4.1 实验内容第34页
        3.4.2 实验结果第34页
        3.4.3 实验分析第34-36页
    3.5 本章小结第36-37页
4 实现GaAs光电导开关的高倍增猝灭模式第37-53页
    4.1 高倍增模式下开关的特性分析第37-41页
        4.1.1 转移电子效应第37-39页
        4.1.2 直接带隙第39-40页
        4.1.3 负微分电导产生机理第40-41页
    4.2 光激发电荷畴机制第41-42页
    4.3 GaAs光电导开关准线性输出的影响因素第42-46页
        4.3.1 实验内容第42页
        4.3.2 实验结果第42-44页
        4.3.3 实验分析第44-46页
    4.4 高倍增猝灭工作模式输出结果第46-50页
        4.4.1 倍增率修正第46-49页
        4.4.2 最佳实验结果第49页
        4.4.3 多次触发下输出波形的重复性能第49-50页
    4.5 本章小结第50-53页
5 工作总结和展望第53-55页
    5.1 工作总结第53页
    5.2 工作展望第53-55页
致谢第55-57页
参考文献第57-60页

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