摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第12-24页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 光催化技术简介 | 第12-20页 |
1.2.1 光催化技术的发展 | 第12-13页 |
1.2.2 光催化还原CO_2 原理 | 第13-15页 |
1.2.3 影响光催化性能的因素 | 第15页 |
1.2.4 提高光催化性能的途径 | 第15-20页 |
1.3 半导体材料在光催化还原CO_2中的应用 | 第20-22页 |
1.3.1 传统紫外光响应半导体光催化还原CO_2 | 第20-21页 |
1.3.2 新型可见光响应半导体光催化还原CO_2 | 第21-22页 |
1.4 本课题的选题意义及研究内容 | 第22-24页 |
1.4.1 选题意义 | 第22-23页 |
1.4.2 研究内容 | 第23-24页 |
第二章 实验部分 | 第24-32页 |
2.1 化学试剂和仪器 | 第24-25页 |
2.1.1 化学试剂 | 第24-25页 |
2.1.2 仪器 | 第25页 |
2.2 材料表征手段 | 第25-28页 |
2.2.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第25-26页 |
2.2.2 场发射扫描电子显微镜(SEM)及能谱仪(EDS) | 第26页 |
2.2.3 透射电镜(TEM) | 第26页 |
2.2.4 紫外可见漫反射(UV-vis DRS) | 第26页 |
2.2.5 X-射线光电子能谱(XPS) | 第26-27页 |
2.2.6 比表面积测试(BET) | 第27页 |
2.2.7自由基检测实验 | 第27页 |
2.2.8 光致发光光谱(PL) | 第27页 |
2.2.9 光电性能测试 | 第27-28页 |
2.3 光催化还原CO_2性能评价体系 | 第28-32页 |
2.3.1 反应装置及条件 | 第28-31页 |
2.3.2 还原产物的产量计算方法 | 第31-32页 |
第三章 不同厚度BiVO_4纳米片构筑CdS/BiVO_4复合材料及其光还原CO_2性能研究 | 第32-54页 |
3.1 前言 | 第32-33页 |
3.2 材料制备 | 第33-34页 |
3.2.1 BiVO_4 纳米片的制备 | 第33页 |
3.2.2 CdS/BiVO_4 复合材料的制备 | 第33-34页 |
3.3 结果与讨论 | 第34-53页 |
3.3.1 XRD分析 | 第34-35页 |
3.3.2 SEM及 EDS分析 | 第35-37页 |
3.3.3 TEM分析 | 第37-39页 |
3.3.4 UV-DRS分析 | 第39-40页 |
3.3.5 带隙结构分析 | 第40-41页 |
3.3.6 XPS分析 | 第41-43页 |
3.3.7 光还原CO_2 性能分析 | 第43-47页 |
3.3.8 循环稳定性分析 | 第47页 |
3.3.9 BET分析 | 第47-49页 |
3.3.10 CO_2还原机理分析 | 第49-51页 |
3.3.11 PL分析 | 第51-52页 |
3.3.12 光电性能分析 | 第52-53页 |
3.4 本章小结 | 第53-54页 |
第四章 CdS/BiOI复合材料制备及其光还原CO_2性能研究 | 第54-70页 |
4.1 前言 | 第54-55页 |
4.2 材料制备 | 第55页 |
4.2.1 BiOI纳米片的制备 | 第55页 |
4.2.2 CdS/BiOI复合材料的制备 | 第55页 |
4.3 结果与讨论 | 第55-69页 |
4.3.1 XRD分析 | 第55-56页 |
4.3.2 SEM及EDS分析 | 第56-58页 |
4.3.3 TEM分析 | 第58-59页 |
4.3.4 UV-DRS分析 | 第59页 |
4.3.5 带隙结构分析 | 第59-60页 |
4.3.6 XPS分析 | 第60-62页 |
4.3.7 光还原CO_2性能分析 | 第62-63页 |
4.3.8 循环稳定性分析 | 第63-65页 |
4.3.9 BET分析 | 第65页 |
4.3.10 CO_2还原机理分析 | 第65-67页 |
4.3.11 PL分析 | 第67-68页 |
4.3.12 光电性能分析 | 第68-69页 |
4.4 本章小结 | 第69-70页 |
第五章 总结 | 第70-72页 |
5.1 课题总结 | 第70-71页 |
5.2 展望 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
硕士期间科研成果 | 第78-79页 |
致谢 | 第79页 |