| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 符号注释表 | 第17-18页 |
| 缩略词 | 第18-19页 |
| 第一章 绪论 | 第19-33页 |
| 1.1 引言 | 第19页 |
| 1.2 流动控制综述 | 第19-25页 |
| 1.2.1 流动控制对象 | 第20-22页 |
| 1.2.2 流动控制基本原理 | 第22-23页 |
| 1.2.3 激励器的发展 | 第23-25页 |
| 1.3 等离子体流动控制技术研究现状 | 第25-30页 |
| 1.3.1 等离子体流动控制技术及分类 | 第25-28页 |
| 1.3.2 纳秒脉冲介质阻挡放电等离子体流动控制技术发展状况 | 第28-30页 |
| 1.3.3 纳秒脉冲等离子体流动控制技术机理 | 第30页 |
| 1.4 本文研究所解决的科学问题 | 第30-31页 |
| 1.5 本文的研究内容 | 第31-33页 |
| 第二章 实验设备、数值模拟及数据分析方法 | 第33-41页 |
| 2.1 实验设备和技术 | 第33-37页 |
| 2.1.1 PIV | 第33-34页 |
| 2.1.2 纹影 | 第34-35页 |
| 2.1.3 红外成像仪 | 第35页 |
| 2.1.4 风洞及测力系统 | 第35-36页 |
| 2.1.5 纳秒脉冲等离子体电源 | 第36-37页 |
| 2.2 数值模拟方法 | 第37-38页 |
| 2.3 数据分析方法 | 第38-40页 |
| 2.3.1 POD分析 | 第38-39页 |
| 2.3.2 误差分析 | 第39-40页 |
| 2.4 小结 | 第40-41页 |
| 第三章 等离子体激励器本体特性 | 第41-61页 |
| 3.1 纳秒脉冲等离子体放电特性 | 第41-43页 |
| 3.2 纳秒脉冲等离子体放电形成多物理扰动特性 | 第43-59页 |
| 3.2.1 激励器诱导动量特性 | 第43-50页 |
| 3.2.1.1 诱导射流 | 第43-47页 |
| 3.2.1.2 体积力 | 第47-50页 |
| 3.2.2 激励器诱导压缩波 | 第50-54页 |
| 3.2.3 焦耳加热效应 | 第54-59页 |
| 3.2.3.1 瞬态焦耳加热 | 第54-57页 |
| 3.2.3.2 时间平均的焦耳加热 | 第57-59页 |
| 3.3 小结 | 第59-61页 |
| 第四章 等离子体对平板边界层的扰动特性 | 第61-84页 |
| 4.1 单脉冲放电下瞬态扰动的数值模拟研究 | 第61-65页 |
| 4.1.1 计算参数 | 第61页 |
| 4.1.2 单脉冲放电下的瞬态扰动 | 第61-65页 |
| 4.2 多脉冲放电下时均扰动的试验研究 | 第65-70页 |
| 4.2.1 实验设备 | 第65页 |
| 4.2.2 不同风速下的流场扰动 | 第65-68页 |
| 4.2.3 边界层探针边界层测量 | 第68-70页 |
| 4.3 多脉冲下边界层扰动的试验和数值模拟对比研究 | 第70-72页 |
| 4.4 等离子体诱导壁面旋涡 | 第72-83页 |
| 4.4.1 涡量产生机理 | 第72-78页 |
| 4.4.2 Richtmyer-Meshkov不稳定性诱导旋涡 | 第78-83页 |
| 4.5 小结 | 第83-84页 |
| 第五章 等离子体对分离流的控制及机理分析 | 第84-130页 |
| 5.1 低雷诺数下分离流控制结果 | 第84-86页 |
| 5.2 等离子体流动分离控制中的主导因素研究 | 第86-93页 |
| 5.2.1 受激剪切流动的时空演化特性 | 第88-89页 |
| 5.2.2 粘性效应产生的影响 | 第89-91页 |
| 5.2.3 非粘性效应产生的影响 | 第91-92页 |
| 5.2.4 其他可能存在的控制机理 | 第92-93页 |
| 5.3 等离子体诱导旋涡涡动力学特性 | 第93-99页 |
| 5.3.1 翼型上激励器产生涡量机理 | 第93-97页 |
| 5.3.2 翼型上R-M不稳定性诱导旋涡特性 | 第97-99页 |
| 5.4 等离子体控制分离流过程中的涡运动学特性 | 第99-108页 |
| 5.4.1 自由剪切层的K-H不稳定性 | 第100-101页 |
| 5.4.2 等离子体诱导旋涡运动过程 | 第101-104页 |
| 5.4.3 等离子体诱导旋涡的时/空发展特性 | 第104-107页 |
| 5.4.4 多脉冲条件下的涡量厚度 | 第107-108页 |
| 5.5 等离子体诱导旋涡POD分析 | 第108-119页 |
| 5.5.1 单脉冲下的POD分析 | 第109-113页 |
| 5.5.2 多脉冲下的POD分析 | 第113-119页 |
| 5.6 等离子体流动控制中的影响因素研究 | 第119-128页 |
| 5.6.1 激励频率对控制效果的影响 | 第119-123页 |
| 5.6.2 激励位置对控制效果的影响 | 第123-128页 |
| 5.7 小结 | 第128-130页 |
| 第六章 等离子体流动控制在飞翼布局飞行器上的应用 | 第130-146页 |
| 6.1 气动力/力矩控制 | 第131-138页 |
| 6.1.1 气动力控制 | 第131-134页 |
| 6.1.2 对滚转力矩的控制 | 第134-138页 |
| 6.2 旋涡控制的机理研究 | 第138-145页 |
| 6.2.1 空间旋涡结构 | 第138-140页 |
| 6.2.2 表面拓扑结构 | 第140-145页 |
| 6.3 小结 | 第145-146页 |
| 第七章 结论与展望 | 第146-149页 |
| 7.1 本文主要工作和贡献 | 第146-147页 |
| 7.2 创新点 | 第147-148页 |
| 7.3 未来工作展望 | 第148-149页 |
| 参考文献 | 第149-162页 |
| 致谢 | 第162-163页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第163-164页 |
