| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 镁合金的特点、分类及应用 | 第10-15页 |
| 1.1.1 镁合金的特点及分类 | 第10-12页 |
| 1.1.2 镁合金的应用 | 第12-15页 |
| 1.2 .镁合金的腐蚀 | 第15-18页 |
| 1.2.1 镁合金的主要腐蚀类型 | 第15-17页 |
| 1.2.2 镁合金腐蚀的主要影响因素 | 第17-18页 |
| 1.3 镁合金的防护 | 第18-21页 |
| 1.3.1 化学转化 | 第18-19页 |
| 1.3.2 阳极氧化 | 第19页 |
| 1.3.3 微弧氧化 | 第19-20页 |
| 1.3.4 激光处理 | 第20页 |
| 1.3.5 离子注入 | 第20页 |
| 1.3.6 气相沉淀 | 第20-21页 |
| 1.4 镁合金表面磁控溅射耐腐蚀薄膜的研究现状及存在的问题 | 第21-23页 |
| 1.4.1 镁合金表面磁控溅射耐腐蚀薄膜的研究现状 | 第21-23页 |
| 1.4.2 存在的问题 | 第23页 |
| 1.5 本课题的研究目的、意义及研究内容 | 第23-24页 |
| 1.5.1 研究目的及意义 | 第23-24页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第24页 |
| 1.6 本章小结 | 第24-26页 |
| 第二章 实验设备及原理 | 第26-36页 |
| 2.1 磁控溅射 | 第26-29页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第26页 |
| 2.1.2 磁控溅射分类 | 第26-28页 |
| 2.1.3 磁控溅射镀膜 | 第28-29页 |
| 2.2 薄膜表征 | 第29-32页 |
| 2.2.1 扫描电镜(SEM) | 第29-30页 |
| 2.2.2 能谱仪(EDS) | 第30页 |
| 2.2.3 X射线衍射仪(XRD) | 第30-31页 |
| 2.2.4 金相显微镜 | 第31-32页 |
| 2.3 薄膜耐腐蚀性能检测 | 第32-34页 |
| 2.3.1 电化学工作站 | 第32-33页 |
| 2.3.2 电化学测试原理 | 第33-34页 |
| 2.4 正交试验设计 | 第34-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 薄膜制备及表征 | 第36-50页 |
| 3.1 前言 | 第36页 |
| 3.2 薄膜制备 | 第36-38页 |
| 3.2.1 制备材料 | 第37页 |
| 3.2.2 前期表面处理 | 第37页 |
| 3.2.3 制备方法 | 第37-38页 |
| 3.3 薄膜表征 | 第38-41页 |
| 3.4 溅射工艺参数对薄膜晶粒尺寸的影响 | 第41-47页 |
| 3.4.1 沉积时间对薄膜晶粒尺寸的影响 | 第41-43页 |
| 3.4.2 溅射功率对薄膜晶粒尺寸的影响 | 第43-45页 |
| 3.4.3 负偏压对薄膜晶粒尺寸的影响 | 第45-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-50页 |
| 第四章 Al_2O_3陶瓷薄膜耐腐蚀性能的研究 | 第50-60页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 溅射工艺对Al_2O_3陶瓷薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第50-54页 |
| 4.2.1 沉积时间对Al_2O_3陶瓷薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第50-51页 |
| 4.2.2 溅射功率对Al_2O_3陶瓷薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第51-53页 |
| 4.2.3 负偏压对Al_2O_3陶瓷薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.3 最优溅射工艺参数下制备的Al_2O_3薄膜的耐腐蚀性能 | 第54-55页 |
| 4.4 膜基腐蚀破坏机制探究 | 第55-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 5.1 总结 | 第60-61页 |
| 5.2 展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第72页 |
