摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 文献综述 | 第13-35页 |
1.1 研究背景 | 第13-15页 |
1.1.1 CO_2浓度升高的危害与来源 | 第13-14页 |
1.1.2 CO_2主要处理手段 | 第14-15页 |
1.2 半导体光催化 | 第15-18页 |
1.2.1 基本原理 | 第16-17页 |
1.2.2 影响因素 | 第17-18页 |
1.3 CO_2光催化还原 | 第18-32页 |
1.3.1 研究现状 | 第19-20页 |
1.3.2 进展与趋势 | 第20-32页 |
1.4 论文的选题意义及研究思路与内容 | 第32-35页 |
1.4.1 选题意义 | 第32页 |
1.4.2 研究思路 | 第32-33页 |
1.4.3 研究内容 | 第33-35页 |
第二章 CoAl-LDH表面羟基对CO_2吸附活化的影响 | 第35-63页 |
2.1 引言 | 第35-36页 |
2.2 COAl-LDH光催化还原CO_2性能研究 | 第36-52页 |
2.2.1 引言 | 第36-37页 |
2.2.2 材料制备与表征 | 第37-39页 |
2.2.3 结果与讨论 | 第39-51页 |
2.2.4 本节小结 | 第51-52页 |
2.3 COAl-LDO光催化还原CO_2性能研究 | 第52-63页 |
2.3.1 引言 | 第52页 |
2.3.2 材料制备与表征 | 第52-53页 |
2.3.3 结果与讨论 | 第53-62页 |
2.3.4 本节小结 | 第62-63页 |
第三章 BiVO_4电子结构对CO_2活化及H2O氧化的影响 | 第63-81页 |
3.1 引言 | 第63-64页 |
3.2 钴掺杂BiVO_4光催化还原CO_2性能研究 | 第64-80页 |
3.2.1 引言 | 第64-65页 |
3.2.2 材料制备与表征 | 第65-67页 |
3.2.3 结果与讨论 | 第67-80页 |
3.3 本节小结 | 第80-81页 |
第四章 总结与展望 | 第81-85页 |
4.1 工作总结 | 第81-82页 |
4.2 工作展望 | 第82-85页 |
参考文献 | 第85-95页 |
致谢 | 第95-97页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第97页 |