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二氧化碳光催化还原材料的制备与性能研究

摘要第4-6页
abstract第6-7页
第一章 文献综述第13-35页
    1.1 研究背景第13-15页
        1.1.1 CO_2浓度升高的危害与来源第13-14页
        1.1.2 CO_2主要处理手段第14-15页
    1.2 半导体光催化第15-18页
        1.2.1 基本原理第16-17页
        1.2.2 影响因素第17-18页
    1.3 CO_2光催化还原第18-32页
        1.3.1 研究现状第19-20页
        1.3.2 进展与趋势第20-32页
    1.4 论文的选题意义及研究思路与内容第32-35页
        1.4.1 选题意义第32页
        1.4.2 研究思路第32-33页
        1.4.3 研究内容第33-35页
第二章 CoAl-LDH表面羟基对CO_2吸附活化的影响第35-63页
    2.1 引言第35-36页
    2.2 COAl-LDH光催化还原CO_2性能研究第36-52页
        2.2.1 引言第36-37页
        2.2.2 材料制备与表征第37-39页
        2.2.3 结果与讨论第39-51页
        2.2.4 本节小结第51-52页
    2.3 COAl-LDO光催化还原CO_2性能研究第52-63页
        2.3.1 引言第52页
        2.3.2 材料制备与表征第52-53页
        2.3.3 结果与讨论第53-62页
        2.3.4 本节小结第62-63页
第三章 BiVO_4电子结构对CO_2活化及H2O氧化的影响第63-81页
    3.1 引言第63-64页
    3.2 钴掺杂BiVO_4光催化还原CO_2性能研究第64-80页
        3.2.1 引言第64-65页
        3.2.2 材料制备与表征第65-67页
        3.2.3 结果与讨论第67-80页
    3.3 本节小结第80-81页
第四章 总结与展望第81-85页
    4.1 工作总结第81-82页
    4.2 工作展望第82-85页
参考文献第85-95页
致谢第95-97页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第97页

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