SG抛光膜水合抛光氮化铝的实验研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 氮化铝材料特性及应用 | 第11-13页 |
| 1.1.1 氮化铝晶体结构 | 第11页 |
| 1.1.2 氮化铝的物理化学性能 | 第11-12页 |
| 1.1.3 氮化铝应用 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-19页 |
| 1.2.1 氮化铝超精密加工技术研究现状 | 第13-17页 |
| 1.2.2 半固结磨料抛光技术研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3 课题研究意义与主要研究内容 | 第19-21页 |
| 1.3.1 课题的研究意义 | 第19-20页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验内容与实验条件 | 第21-33页 |
| 2.1 SG抛光膜的制备 | 第21-23页 |
| 2.1.1 SG抛光膜简介 | 第21页 |
| 2.1.2 SG抛光膜的主要制备流程 | 第21-23页 |
| 2.1.3 SG抛光膜制备装置 | 第23页 |
| 2.1.4 SG抛光膜的保存方法 | 第23页 |
| 2.2 SG抛光膜抛光氮化铝的实验设计 | 第23-26页 |
| 2.2.1 氮化铝基片加工效果实验设计 | 第23-25页 |
| 2.2.2 氮化铝加工机理实验设计 | 第25-26页 |
| 2.3 氮化铝加工表面质量评价 | 第26-28页 |
| 2.3.1 表面粗糙度及P-V值测量 | 第26-27页 |
| 2.3.2 表面显微形貌的测量 | 第27页 |
| 2.3.3 材料去除率的计算 | 第27-28页 |
| 2.4 氮化铝粉末水合反应的条件 | 第28-30页 |
| 2.4.1 氮化铝粉末溶液的制备 | 第28-29页 |
| 2.4.2 氮化铝粉末水合产物检测 | 第29-30页 |
| 2.5 氮化铝与SG抛光膜的动摩擦系数测定 | 第30-31页 |
| 2.6 氮化铝材料去除机理的表征方式 | 第31-33页 |
| 第3章 自动旋转刮膜装置的搭建 | 第33-41页 |
| 3.1 自动旋转刮膜装置的设计背景 | 第33-35页 |
| 3.1.1 自动旋转刮膜装置的总体设计方案 | 第34-35页 |
| 3.1.2 自动旋转刮膜装置的设计 | 第35页 |
| 3.2 底座的设计 | 第35-36页 |
| 3.2.1 机架的设计 | 第35-36页 |
| 3.2.2 传动系统的设计 | 第36页 |
| 3.3 刮刀单元的设计 | 第36-37页 |
| 3.3.1 刮刀的设计 | 第36-37页 |
| 3.3.2 高度调节装置设计 | 第37页 |
| 3.4 支撑座的设计 | 第37-38页 |
| 3.5 余料收集槽的设计 | 第38页 |
| 3.6 顶出装置的设计 | 第38-39页 |
| 3.7 自动旋转刮膜装置实物图 | 第39页 |
| 3.8 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 氮化铝基片干法抛光和湿法抛光的加工研究 | 第41-65页 |
| 4.1 氮化铝基片干法抛光表面质量 | 第41-46页 |
| 4.1.1 氮化铝基片的表面形貌 | 第41-43页 |
| 4.1.2 氮化铝基片的表面粗糙度和P-V值 | 第43-46页 |
| 4.2 氮化铝基片湿法抛光表面质量 | 第46-50页 |
| 4.2.1 氮化铝基片的表面形貌 | 第46-47页 |
| 4.2.2 氮化铝基片的表面粗糙度和P-V值 | 第47-50页 |
| 4.3 氮化铝基片的材料去除率 | 第50-51页 |
| 4.4 SG抛光膜的加工前后形貌变化 | 第51-52页 |
| 4.4.1 SG抛光膜干法抛光前后的形貌变化 | 第51页 |
| 4.4.2 SG抛光膜湿法抛光前后的形貌变化 | 第51-52页 |
| 4.5 氮化铝粉末水合反应的条件 | 第52-54页 |
| 4.5.1 溶剂对氮化铝粉末水合反应的影响 | 第52-53页 |
| 4.5.2 磁力搅拌对氮化铝粉末水合反应的影响 | 第53页 |
| 4.5.3 温度对氮化铝粉末水合反应的影响 | 第53-54页 |
| 4.6 氮化铝基片与SG抛光膜的动摩擦系数 | 第54-55页 |
| 4.7 氮化铝基片磨屑的表征 | 第55-62页 |
| 4.7.1 氮化铝基片干法抛光磨屑 | 第55-58页 |
| 4.7.2 氮化铝基片湿法抛光磨屑 | 第58-61页 |
| 4.7.3 固结磨料湿法抛光氮化铝基片磨屑 | 第61-62页 |
| 4.8 本章小结 | 第62-65页 |
| 第5章 材料不同晶体状态对氮化铝材料加工的影响 | 第65-93页 |
| 5.1 氮化铝多晶干法抛光表面质量 | 第65-69页 |
| 5.1.1 氮化铝多晶表面形貌 | 第65-66页 |
| 5.1.2 氮化铝多晶的表面粗糙度和P-V值 | 第66-69页 |
| 5.2 氮化铝多晶湿法抛光表面质量 | 第69-72页 |
| 5.2.1 氮化铝多晶表面形貌 | 第69-70页 |
| 5.2.2 氮化铝多晶的表面粗糙度和P-V值 | 第70-72页 |
| 5.3 氮化铝单晶干法抛光表面质量 | 第72-76页 |
| 5.3.1 氮化铝单晶表面形貌 | 第72-73页 |
| 5.3.2 氮化铝单晶的表面粗糙度和P-V值 | 第73-76页 |
| 5.4 氮化铝单晶湿法抛光表面质量 | 第76-80页 |
| 5.4.1 氮化铝单晶表面形貌 | 第76-77页 |
| 5.4.2 氮化铝单晶的表面粗糙度和P-V值 | 第77-80页 |
| 5.5 不同加工方式的材料去除率对比 | 第80-81页 |
| 5.6 氮化铝多晶与单晶抛光磨屑的表征 | 第81-89页 |
| 5.6.1 氮化铝多晶干法抛光的磨屑 | 第81-83页 |
| 5.6.2 氮化铝多晶湿法抛光的磨屑 | 第83-85页 |
| 5.6.3 氮化铝单晶干法抛光的磨屑 | 第85-87页 |
| 5.6.4 氮化铝单晶湿法抛光的磨屑 | 第87-89页 |
| 5.7 SG抛光膜的加工前后形貌变化 | 第89-91页 |
| 5.7.1 干法抛光前后SG抛光膜的形貌变化 | 第89-90页 |
| 5.7.2 湿法抛光前后SG抛光膜的形貌变化 | 第90-91页 |
| 5.8 SG抛光膜与氮化铝的动摩擦系数 | 第91-92页 |
| 5.8.1 SG抛光膜与氮化铝多晶的动摩擦系数 | 第91页 |
| 5.8.2 SG抛光膜与氮化铝单晶的动摩擦系数 | 第91-92页 |
| 5.9 本章小结 | 第92-93页 |
| 第6章 结论与展望 | 第93-95页 |
| 6.1 结论 | 第93-94页 |
| 6.2 展望 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-99页 |
| 致谢 | 第99-101页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第101页 |
